編號：NMJS03397
篇名：基于氧化鋅納米線表面?zhèn)鲗霭l(fā)射陰極的研究
作者：張永愛； 林金陽； 吳朝興； 鄭泳； 林志賢； 郭太良；
關(guān)鍵詞：氧化鋅； 表面?zhèn)鲗霭l(fā)射； 熱蒸發(fā)； 絲網(wǎng)印刷； 場發(fā)射特性；
機構(gòu)： 福州大學物理與信息工程學院；
摘要： 利用熱蒸發(fā)和絲網(wǎng)印刷技術(shù)在玻璃基底上成功制備了氧化鋅納米線表面?zhèn)鲗霭l(fā)射陰極陣列,并測試其場發(fā)射性能。掃描電鏡表明,在氬氣和氧氣流量分別為60和1mL/min,反應溫度550℃保溫30min條件下制備的氧化鋅納米線均勻垂直生長在玻璃基底上,直徑大約在80～200nm,長度>7μm。場發(fā)射測試表明,在陽壓2000V和陰陽間距為500μm時,ZnO納米線表面?zhèn)鲗霭l(fā)射陰極的開啟電壓為70V;在柵壓為96V時,電子發(fā)射效率為26.2%,高于傳統(tǒng)報道的表面?zhèn)鲗щ娮影l(fā)射器件,在經(jīng)過80min的老練后發(fā)射接近穩(wěn)定,平均發(fā)射電流接近135μA,表明ZnO納米線表面?zhèn)鲗霭l(fā)射陰極有著穩(wěn)定高效的場發(fā)射性能。
