編號：NMJS03385
篇名：硅烷偶聯(lián)劑KH-560改性納米二氧化硅
作者：劉會媛； 李德玲； 李星；
關(guān)鍵詞：納米二氧化硅； 烷偶聯(lián)劑； 接枝改性；
機構(gòu)： 唐山師范學(xué)院化學(xué)系；
摘要： 用硅烷偶聯(lián)劑KH-560對納米SiO2樣品表面進(jìn)行接枝改性研究。考察了納米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性溫度以及改性時間對改性效果的影響。采用紅外光譜、熱重分析手段對表面改性前后的納米SiO2進(jìn)行表征。納米SiO2最佳工藝改性條件:納米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性溫度90°C,改性時間6 h。
