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        激光熔覆Ta-W合金涂層工藝方法研究

        編號(hào):FTJS03477

        篇名:激光熔覆Ta-W合金涂層工藝方法研究

        作者:武揚(yáng); 虞鋼; 何秀麗; 寧偉健; 鄭彩云; 張永杰;

        關(guān)鍵詞:激光技術(shù); 激光熔覆; 預(yù)置粉末; 同軸送粉; Ta-W合金; 顯微組織;

        機(jī)構(gòu): 中國(guó)科學(xué)院力學(xué)研究所先進(jìn)制造工藝力學(xué)實(shí)驗(yàn)室;

        摘要: 采用預(yù)置涂層和同軸送粉激光熔覆方法,分別以Ta/W混合粉末和純W粉末為熔覆材料,純Ta為基底,在Ta板上制備Ta-W合金涂層,對(duì)難熔金屬材料的激光熔覆工藝方法進(jìn)行了對(duì)比研究。利用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)及顯微硬度計(jì)對(duì)兩種方法所制備熔覆層的微觀組織和顯微硬度進(jìn)行了分析。結(jié)果表明,預(yù)置粉末法激光熔覆層厚度均勻,稀釋率低,涂層內(nèi)部為粗大的Ta-W合金固溶體組織,熔覆層平均硬度為1500HV,高于基底10倍。同軸送粉法激光熔覆層與基底呈良好的冶金結(jié)合,熔深較大,涂層內(nèi)部為致密細(xì)小的樹(shù)枝狀Ta-W合金固溶體,均勻分布于Ta中。涂層平均硬度為800HV,為基材的5倍。

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