編號：CPJS01556
篇名：不同粒徑核殼結(jié)構(gòu)聚苯乙烯(PS)-CeO_2復(fù)合磨料的制備、表征及其化學(xué)機(jī)械拋光性能
作者：陸錦霞； 陳志剛； 隆仁偉；
關(guān)鍵詞：PS-CeO2復(fù)合磨料； 核殼結(jié)構(gòu)； 化學(xué)機(jī)械拋光；
機(jī)構(gòu)： 常州大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院； 蘇州科技學(xué)院化學(xué)與生物工程學(xué)院；
摘要： 以無皂乳液聚合法制備的不同粒徑聚苯乙烯(Ploystrene,PS)微球?yàn)閮?nèi)核,以硝酸鈰和六亞甲基四胺為原料,采用液相工藝制備具有核殼結(jié)構(gòu)的PS-CeO2復(fù)合微球。利用X射線衍射儀(XRD)、透射電子顯微鏡(TEM)、場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)、傅里葉轉(zhuǎn)換紅外光譜儀(FT-IR)和熱重分析儀(TGA)等對樣品的成分、物相結(jié)構(gòu)、形貌、粒徑以及團(tuán)聚情況進(jìn)行表征。將所制備的PS-CeO2復(fù)合微球作為磨料用于二氧化硅介質(zhì)層的化學(xué)機(jī)械拋光,用原子力顯微鏡(AFM)觀察拋光表面的微觀形貌,測量表面粗糙度。結(jié)果表明:所制備的3種PS微球呈單分散規(guī)則球形,粒徑分別約為120、170和240 nm;3種PS-CeO2復(fù)合微球具有核殼結(jié)構(gòu),粒徑分別約為140、190和260 nm,CeO2殼厚約為10 nm。隨著PS-CeO2復(fù)合磨料粒徑的減小,拋光表面粗糙度隨之降低,經(jīng)樣品F1拋光后表面在10μm×10μm面積范圍內(nèi)粗糙度的平均值(Ra)及其均方根(Rms)分別為0.372和0.470 nm。
