編號：NMJS03279
篇名：(Ni–Mo)/TiO_2納米薄膜光電催化降解羅丹明B的性能
作者：李愛昌； 盧艷紅； 曹國蕾； 劉萍； 劉增仁；
關鍵詞：鎳–鉬–二氧化鈦； 納米薄膜； 復合電沉積； 光電催化； 羅丹明B；
機構： 廊坊師范學院化學與材料科學學院；
摘要： 采用恒電流復合電沉積制備了(Ni–Mo)/TiO2薄膜,對薄膜的表面形貌、晶相結(jié)構和光譜特性進行了表征,以羅丹明B為模擬污染物對薄膜的光電催化性能進行了測定,并分析了光電催化機理。結(jié)果表明:(Ni–Mo)/TiO2薄膜是粒徑為50～100 nm的TiO2納米粒子相和納米晶Ni–Mo固溶體相構成的復合薄膜。薄膜具有優(yōu)異的光電催化活性和顯著的光電協(xié)同效應,與未加陽極偏壓相比,在最佳陽極偏壓(0.2 V)下,光催化降解率提高了1.09倍,復合薄膜的光電催化降解率是多孔P25 TiO2/ITO(indium tin oxide)納米薄膜的2.05倍。復合薄膜光電催化活性的提高,主要源于在薄膜中有效形成了(Ni–Mo)/TiO2異質(zhì)結(jié)和良好的電子通道,它一方面可以促使光生電荷的分離;另一方面加速了氧氣與激發(fā)電子的還原反應。
