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            斯普瑞噴霧系統(tǒng)(上海)有限公司

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            破局28納米清洗困局,斯普瑞噴霧以硬核科技重塑半導(dǎo)體制造標(biāo)桿

            破局28納米清洗困局,斯普瑞噴霧以硬核科技重塑半導(dǎo)體制造標(biāo)桿
            斯普瑞  2025-03-25  |  閱讀:144

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            斯普瑞噴霧

            NanoCleaning

            破局28納米清洗困局


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            半導(dǎo)體制造的“納米級潔癖”

            清洗技術(shù)成制程升級勝負手


            當(dāng)半導(dǎo)體制造邁入28納米及以下制程,晶圓表面殘留的0.1微米級微粒足。以引發(fā)芯片功能失效,其嚴(yán)苛程度堪比“在足球場上清除一粒砂糖”。據(jù)SEMI研究顯示,清洗環(huán)節(jié)缺陷率每降低1%,芯片良率可提升超5%,直接撬動千萬級經(jīng)濟效益。在這場關(guān)乎技術(shù)話語權(quán)的較量中,國內(nèi)某家與清華大學(xué)合作的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)軍企業(yè),卻因晶圓研磨機(CMP)設(shè)備清洗工藝的微小缺口,陷入國際競爭困局。


            當(dāng)遭遇28納米“清洗黑障”

            斯普瑞噴霧助力企業(yè)技術(shù)突圍


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            客戶案例分享

            作為國產(chǎn)CMP設(shè)備與清洗設(shè)備的雙賽道企業(yè),卻在28納米工藝升級時遭遇致命挑戰(zhàn)——為簡化流程取消精細清洗模塊后,晶圓表面金屬殘留、微粒污染等問題集中爆發(fā),清洗合格率驟降至90%,單月廢品損失超百萬。


            NanoCleaning破壁:

            從實驗室參數(shù)到產(chǎn)線數(shù)據(jù)的科技躍遷

            斯普瑞噴霧技術(shù)團隊深入該企業(yè)產(chǎn)線解剖工藝鏈,發(fā)現(xiàn)問題的核心在于傳統(tǒng)噴霧清洗的“粗放式覆蓋”難以實現(xiàn)納米級清潔穿透。我們自主研發(fā)的NanoCleaning高精度空氣霧化系統(tǒng),通過三項顛覆性創(chuàng)新直擊痛點:  


            1、量子級霧化控制

            采用超音速氣體動力學(xué)模型,將清洗液破碎為0.01μm級納米霧滴,較傳統(tǒng)工藝粒徑縮小80%,穿透晶圓表面微結(jié)構(gòu)能力提升5倍;


            2、動態(tài)流場重構(gòu)

            基于百萬級流體仿真數(shù)據(jù),開發(fā)湍流-層流自適應(yīng)調(diào)節(jié)算法,使清洗介質(zhì)在0.1秒內(nèi)完成表面污染物剝離; 


            3、智能工藝耦合

            通過模塊化設(shè)計將清洗單元無縫嵌入客戶CMP設(shè)備,實現(xiàn)研磨-清洗工藝鏈的毫秒級響應(yīng)閉環(huán)。


            驗證數(shù)據(jù)驚艷業(yè)界

            在客戶產(chǎn)線實測中,搭載NanoCleaning的CMP設(shè)備不僅將28納米晶圓清洗合格率拉升至98%的行業(yè)天花板,更通過工藝優(yōu)化使單臺設(shè)備增值5萬元。測試顯示,其殘留顆粒數(shù)較日系競品低42%,成為客戶奪回高端市場的“技術(shù)王牌”。


            技術(shù)經(jīng)濟學(xué)范本:

            從產(chǎn)線到財報的增值奇跡

            “這不是簡單的設(shè)備改造,而是一場制造邏輯的革命?!痹撈髽I(yè)在驗收報告中如此評價。NanoCleaning帶來的不僅是技術(shù)指標(biāo)的躍升: 


            效果一

            成本重構(gòu)清洗環(huán)節(jié)效率提升使二次研磨時間縮短15%,單月節(jié)省人工200小時,相當(dāng)于每年減支超60萬元;  

            效果二

            收益裂變設(shè)備溢價與良率提升雙輪驅(qū)動,客戶單月新增收益7萬元,投資回收期僅2個月,投資回報率高達600%; 

            效果三

            格局重塑Nano Cleaning技術(shù)的成功應(yīng)用,使該企業(yè)在28納米及以下制程的晶圓清洗領(lǐng)域處于行業(yè)領(lǐng)先地位,吸引了更多高端客戶的關(guān)注與合作。


            高精尖技術(shù)的產(chǎn)業(yè)宣言

            斯普瑞噴霧NanoCleaning的突圍之路,印證了一個硬道理:在半導(dǎo)體制造的“超凈間”里,真正的技術(shù)護城河往往藏于細節(jié)。當(dāng)國產(chǎn)設(shè)備商在28納米清洗這樣的微觀戰(zhàn)場實現(xiàn)“超車”,其意義遠超單一技術(shù)突破——它標(biāo)志著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始從“工藝跟隨”轉(zhuǎn)向“標(biāo)準(zhǔn)定義”。  


            如今,這項技術(shù)已延伸至14納米制程驗證,并在第三代半導(dǎo)體材料清洗中展現(xiàn)顛覆潛力。當(dāng)行業(yè)還在討論“國產(chǎn)替代”時,斯普瑞與合作伙伴已用NanoCleaning寫下新的注腳:高端半導(dǎo)體設(shè)備的未來戰(zhàn)場,中國技術(shù)正在定義規(guī)則。  

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