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            湖北匯富納米材料股份有限公司

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            氣相二氧化硅,化學(xué)機(jī)械拋光液中的“精巧工匠”

            氣相二氧化硅,化學(xué)機(jī)械拋光液中的“精巧工匠”
            HIFULL  2025-03-20  |  閱讀:221

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            在材料加工的精密、微觀世界里面,化學(xué)機(jī)械拋光液作為材料加工過程中不可或缺的一環(huán),對于實(shí)現(xiàn)材料表面的高精度、高光潔度和高質(zhì)量發(fā)揮著關(guān)鍵作用。它猶如一名獨(dú)具匠心的幕后藝術(shù)大師,精心雕琢著各種材料的表面,使其達(dá)到合乎要求的平整度和光潔度。在現(xiàn)代制造業(yè),尤其是半導(dǎo)體、光學(xué)等領(lǐng)域,發(fā)揮著不可替代的作用。從小小的芯片到精密的光學(xué)鏡片,從高端的電子元件到先進(jìn)的機(jī)械部件,拋光液的身影無處不在。

            image.png         而在化學(xué)機(jī)械拋光液這名“藝術(shù)大師”的背后,氣相二氧化硅猶如一名“精巧的工匠”,憑借著超微細(xì)粒徑、高表面面積、高活性等獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì),在拋光過程中發(fā)揮著不俗的作用,成為化學(xué)機(jī)械拋光過程中實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)拋光的“秘密武器”。

            那么氣相二氧化硅是如何在化學(xué)機(jī)械拋光液中展現(xiàn)其能力的呢?

            image.png 首先,氣相二氧化硅有令人矚目的高純度,其 SiO?含量可高達(dá)99.9%以上,因此不會(huì)引入金屬陽離子污染,提供了純凈的拋光環(huán)境。

            其次,氣相二氧化硅具有良好的穩(wěn)定性和分散性,使其能夠在在拋光液中的均勻分散,確保拋光液在拋光過程中均勻地作用,避免出現(xiàn)局部拋光過度或不足的情況,有效減少了材料表面的缺陷,達(dá)到極高的平整度和光潔度。

            再者,氣相二氧化硅的硬度與單質(zhì)硅相近,這種恰到好處的硬度適配,使其在對軟金屬、硅等材料進(jìn)行拋光時(shí),能夠在不損傷材料的前提下,實(shí)現(xiàn)對材料表面的精細(xì)拋光,保證電子元件的性能穩(wěn)定可靠。同時(shí),在精密機(jī)械部件的制造中,軟金屬材料的拋光也需要極其小心,氣相二氧化硅的溫柔打磨特性,能夠滿足這些部件對表面質(zhì)量的嚴(yán)格要求,提高機(jī)械部件的精度和使用壽命。

            image.png

            為了進(jìn)一步探究氣相二氧化硅對化學(xué)機(jī)械拋光提升效果,湖北匯富納米材料股份有限公司技術(shù)人員通過實(shí)驗(yàn)和數(shù)據(jù)進(jìn)一步驗(yàn)證了這一效果。

            匯富納米技術(shù)人員從不同添加量和不同比表兩個(gè)維度對氣相二氧化硅在化學(xué)機(jī)械拋光液中的作用進(jìn)行了探究。


            在添加量實(shí)驗(yàn)中,分別在化學(xué)機(jī)械拋光液中加入5%、10%和15%的親水型氣相二氧化硅HL-200,在高速分散機(jī)中充分分散20分鐘后,我們分別對玻璃片進(jìn)行1分鐘的拋光操作,隨后使用表面粗糙度儀對其粗糙程度進(jìn)行測試。

             image.png

             

            測試結(jié)果顯示,添加5%HL-200拋光液拋拋光后的玻璃表面粗糙度Ra為0.868μm,添加10%HL-200玻璃表面粗糙度Ra為0.623μm,添加15%HL-200玻璃表面粗糙度Ra為0.104μm。當(dāng)添加量從5%增加到10%時(shí),粗糙程度降低了28%,而當(dāng)添加量從10%增加到15%時(shí),粗糙程度則降低了83%,降低幅度越來越顯著??梢婋S著氣相二氧化硅添加量的增加,玻璃的粗糙程度變小,拋光液的拋光效果越來越好。


            在比表面積實(shí)驗(yàn)中,分別在化學(xué)機(jī)械拋光液中加入10%親水型氣相二氧化硅HL-200、HL-300和HL-380,同樣在高速分散機(jī)中充分分散后使用鋁片分別進(jìn)行拋光實(shí)驗(yàn)。

            測試結(jié)果顯示,通過肉眼觀察三組鋁片表面的粗糙度和光澤度,不同比表氣相二氧化硅在相同添加量下對鋁片的拋光的粗糙度影響相近,表面的光亮度相當(dāng)。

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            氣相二氧化硅憑借其高純度、良好的穩(wěn)定性與分散性以及與多種材料適配的硬度,在拋光液中展現(xiàn)出獨(dú)特的優(yōu)勢,成為眾多高精度材料加工領(lǐng)域不可或缺的關(guān)鍵成分。

            展望未來,隨著 5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體、光學(xué)等行業(yè)對材料表面精度的要求將持續(xù)提高,這將進(jìn)一步推動(dòng)氣相二氧化硅拋光液技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展。一方面,匯富納米技術(shù)人員將不斷優(yōu)化氣相二氧化硅的制備工藝和表面處理技術(shù),開發(fā)出性能更優(yōu)異、成本更合理的產(chǎn)品,以滿足不同行業(yè)日益增長的需求;另一方面,隨著對拋光機(jī)理的深入理解,氣相二氧化硅拋光液將與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)更高效、更智能的拋光過程,為材料加工領(lǐng)域帶來新的突破和發(fā)展機(jī)遇。氣相二氧化硅在拋光液中的應(yīng)用前景廣闊,它將繼續(xù)在材料加工領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,推動(dòng)現(xiàn)代制造業(yè)向更高精度、更高質(zhì)量的方向邁進(jìn)。


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