核心參數(shù)
- 粉碎程度:超細(xì)粉碎
- 工作原理:介質(zhì)研磨
MicroMedia?
珠磨機(jī)容量小,動(dòng)力密度的變化范圍從 0.1 到 4 千瓦/升。 為安全使用極小的磨珠而設(shè)計(jì)。 磨珠集中在旋轉(zhuǎn)的環(huán)形外層,產(chǎn)品沿軸向流動(dòng)。 MicroMediaTM 的優(yōu)勢(shì)是在外定子以及內(nèi)轉(zhuǎn)子與內(nèi)定子間的環(huán)形物料通道內(nèi)都有強(qiáng)力冷卻。 上游的多個(gè)分離步驟防止研磨珠堵塞位于轉(zhuǎn)子頂部的分離篩網(wǎng)。
非常適合 20 到 800 μm 的磨珠
**限度地減少磨珠從外部加工區(qū)域轉(zhuǎn)移到內(nèi)部帶冷卻的環(huán)形通道,超大面積的分離篩網(wǎng)使得使用極小的磨珠時(shí)也可實(shí)現(xiàn)很高的流速。
更小納米范圍的軟研磨
微小磨珠的有效分離允許以 4 米/秒的線速度進(jìn)行軟研磨 ,目標(biāo)顆粒的細(xì)度可達(dá)到 10 nm。
高能量真實(shí)研磨
由于冷卻效率優(yōu)越,可以在高線速度和高動(dòng)力密度下實(shí)現(xiàn)熱敏型產(chǎn)品的高能量真實(shí)研磨。
適用于不能被污染的產(chǎn)品
對(duì)不能被污染的產(chǎn)品進(jìn)行納米處理可選用陶瓷和金屬內(nèi)襯。
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