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簡(jiǎn)介： 該設(shè)備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續(xù)生長(zhǎng)或者線性材料的連續(xù)的專用設(shè)備，此款設(shè)備是快速冷卻卷對(duì)卷等離子體增強(qiáng)CVD連續(xù)生長(zhǎng)爐，它由高溫生長(zhǎng)腔體，三路質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)，真空機(jī)組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動(dòng)化控制系統(tǒng)組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室，收放密封裝置內(nèi)分別對(duì)應(yīng)安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯