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            馬爾文帕納科
            Malvern Panalytical

            馬爾文帕納科

            19 年白金會(huì)員

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            【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測(cè)量專題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)

            【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測(cè)量專題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)
            馬爾文帕納科  2022-10-14  |  閱讀:1279

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            薄膜測(cè)量主題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)

            薄膜通常是指形成于基底之上厚度在一微米或幾微米以下的固態(tài)材料。隨著沉積工藝的進(jìn)步,薄膜材料的的功能性不斷被開發(fā)利用,越來越多的應(yīng)用于不同的工業(yè)領(lǐng)域,譬如半導(dǎo)體、光學(xué)器件、汽車、新能源等諸多行業(yè)。

            沉積工藝決定了薄膜的成分和結(jié)構(gòu),最終影響薄膜的物理性能。馬爾文帕納科的X射線分析儀器可以對(duì)不同類型的薄膜材料進(jìn)行表征,幫助客戶獲取薄膜成分、厚度、微結(jié)構(gòu)、取向等關(guān)鍵信息,幫助研究者優(yōu)化或控制工藝參數(shù),以改善薄膜材料的性能。

            10月14日(周五),馬爾文帕納科將與儀器信息網(wǎng)聯(lián)合推出主題為“微觀丈量,‘膜’力無限——X射線分析技術(shù)應(yīng)用于薄膜測(cè)量”的專題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)?;顒?dòng)將特邀同濟(jì)大學(xué)物理科學(xué)與工程學(xué)院朱京濤教授,馬爾文帕納科亞太區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)理鐘明光先生,以及馬爾文帕納科XRD產(chǎn)品經(jīng)理王林博士,XRF產(chǎn)品經(jīng)理熊佳星先生做薄膜測(cè)量應(yīng)用的相關(guān)報(bào)告,內(nèi)容涉及多晶薄膜反射、織構(gòu)、應(yīng)力;半導(dǎo)體薄膜測(cè)量以及涂層、鍍層等金屬薄膜的成分及結(jié)構(gòu)鑒定。還將安排幾款用于薄膜測(cè)量的X射線分析儀器的視頻演示。期待與涉及薄膜測(cè)量方向的廣大科研工作者和企業(yè)研發(fā)、質(zhì)控專業(yè)人員共同探討薄膜測(cè)量領(lǐng)域X射線分析技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用。

            活動(dòng)日程

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            朱京濤 博士,教授,博士生導(dǎo)師,畢業(yè)于復(fù)旦大學(xué)物理系,主要從事微納光學(xué)、薄膜光學(xué)與技術(shù)研究。作為項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,已完成國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目1項(xiàng),面上項(xiàng)目6項(xiàng),國際合作交流項(xiàng)目1項(xiàng),重大專項(xiàng)1項(xiàng),軍口重大專項(xiàng)5項(xiàng),軍口配套課題十余項(xiàng),在國際刊物上共發(fā)表學(xué)術(shù)論文140余篇,國際學(xué)術(shù)會(huì)議邀請(qǐng)報(bào)告6次。獲得上海市技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)和軍隊(duì)科技進(jìn)步三等獎(jiǎng)各一項(xiàng)。為我國重大科學(xué)裝置研制極紫外、軟X射線與X射線波段納米薄膜器件,并實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代和產(chǎn)業(yè)化。

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            王  林博士,馬爾文帕納科中國區(qū)XRD產(chǎn)品經(jīng)理。2004年畢業(yè)于清華大學(xué)物理系獲學(xué)士學(xué)位,2011年于澳大利亞University of Wollongong伍倫貢大學(xué)獲得博士學(xué)位,博士期間研究方向?yàn)槌瑢?dǎo)薄膜材料。畢業(yè)后即加入帕納科公司,從事XRD應(yīng)用研究及技術(shù)支持等工作。

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            鐘明光先生,馬爾文帕納科亞太區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)理,北維吉尼亞大學(xué)工程碩士,曾任臺(tái)灣明志科技大學(xué)及臺(tái)灣東海大學(xué) X-Ray專題講師。在馬爾文帕納科任職超過20年,一直從事半導(dǎo)體行業(yè)分析設(shè)備的應(yīng)用與研究,發(fā)表多篇 X-Ray 應(yīng)用于SiGe材料的分析技術(shù)文章,精通X射線衍射及X射線熒光在第一代、第二代及第三代半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的分析技術(shù)。

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            熊佳星先生,馬爾文帕納科中國區(qū)XRF產(chǎn)品經(jīng)理。2010年畢業(yè)于中國科學(xué)技術(shù)大學(xué),化學(xué)物理專業(yè)碩士;2012年加入荷蘭帕納科公司,負(fù)責(zé)其在中國XRF產(chǎn)品的應(yīng)用開發(fā)及支持工作,后擔(dān)任產(chǎn)品經(jīng)理,負(fù)責(zé)XRF產(chǎn)品線。

            薄膜測(cè)量相關(guān)產(chǎn)品介紹

            高分辨 X 射線衍射儀

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            X'Pert3 MRD/XL


            馬爾文帕納科新一代X'Pert3 MRD(XL)高分辨X射線衍射儀,專為薄膜分析打造,具有全新編碼定位技術(shù)測(cè)角儀,PreFIX預(yù)校準(zhǔn)光路系統(tǒng),適用高負(fù)載條件的歐拉環(huán)樣品臺(tái),允許裝載200mm-300mm的晶圓,PIXcel3D探測(cè)器實(shí)現(xiàn)高動(dòng)態(tài)范圍的測(cè)量,靈活切換0D-1D-2D靜態(tài)及掃描模式。性能的改進(jìn)大大增強(qiáng)其可靠性,進(jìn)一步提高了分析能力。可提供一體化解決方案來滿足不同需求和應(yīng)用:

            半導(dǎo)體和單晶晶圓:倒易空間探索、搖擺曲線分析

            多晶固體和薄膜:織構(gòu)分析、反射測(cè)量

            超薄薄膜、納米材料和非晶層:掠入射物相鑒定、面內(nèi)衍射

            非常溫條件下的測(cè)量:隨溫度和時(shí)間變化的峰高

            多功能 X 射線衍射系統(tǒng)

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            Empyrean 銳影

            Empyrean銳影多功能X射線衍射系統(tǒng)具有在一臺(tái)儀器上測(cè)量多種類樣品的能力,無論是粉末、薄膜還是納米材料與固體物質(zhì)。作為馬爾文帕納科第三代Empyrean銳影,具有智能“MaltiCore”多核光路系統(tǒng),無需人工干預(yù)即可實(shí)現(xiàn)多種類的不同測(cè)量。外延薄膜分析中,Empyrean銳影可以放置最大140mm的晶圓,對(duì)2英寸的晶圓和晶圓碎片進(jìn)行完整XY Mapping。在薄膜分析領(lǐng)域的應(yīng)用還包括:

            物相鑒定(和深度剖析)

            X射線反射

            薄膜應(yīng)力分析

            織構(gòu)分析

            In-plane衍射

            外延層分析

            倒易空間Mapping

            非常溫環(huán)境條件下測(cè)量

            多功能臺(tái)式XRD

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            Aeris 

            Aeris臺(tái)式X射線衍射儀具有大功率系統(tǒng)上才能實(shí)現(xiàn)的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度。外置進(jìn)樣系統(tǒng),易于使用,方便環(huán)保。無需外置水冷、占地面積小,節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間。新一代Aeris,還可配置掠入射薄膜分析功能模塊。

            圓晶分析儀

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            2830ZT 

            2830ZT波長色散X射線熒光圓晶分析儀提供了用于測(cè)量薄膜厚度和成分的功能。針對(duì)半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)而設(shè)計(jì),專門配備了具有突破性的ZETA技術(shù)X射線管,和多層膜分析軟件FP Multi,F(xiàn)ALMO-2G可集成到任意實(shí)驗(yàn)室或晶圓廠,該儀器可為多種晶片(厚達(dá)300mm)測(cè)定層結(jié)構(gòu)、厚度、摻雜都和表面均勻性。

            波長色散X射線熒光光譜儀

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            Zetium X射線熒光光譜儀


            Zetium光譜儀金屬專業(yè)版提供了一個(gè)完整的專用工具,可用于分析金屬制造所需的原材料以及特定的金屬解決方案,滿足過程控制的苛刻分析要求。這是通過提供專用解決方案,融合優(yōu)化硬件、內(nèi)置專業(yè)知識(shí)模板實(shí)現(xiàn)的,并可根據(jù)要求定制。軟件中可添加Stratos涂層分析軟件,完成對(duì)涂層、表面層的多層結(jié)構(gòu)進(jìn)行快速、簡(jiǎn)單和非破壞性的分析。

            臺(tái)式能量色散X射線熒光光譜儀

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            Epsilon 4 

            Epsilon 4臺(tái)式XRF分析儀,廣泛用于從研發(fā)到流程控制等各個(gè)領(lǐng)域中需要從氟(F)到镅(Am)元素分析的行業(yè)細(xì)分市場(chǎng)。Epsilon4將激發(fā)和檢測(cè)技術(shù)與成熟軟件和智能設(shè)計(jì)相結(jié)合,其分析性能更接近于功率更高的落地式XRF光譜儀。

            Malvern Panalytical

            Malvern Panalytical ,馬爾文帕納科的使命是通過對(duì)材料進(jìn)行化學(xué)、物理和結(jié)構(gòu)分析,打造出客戶導(dǎo)向型創(chuàng)新解決方案和服務(wù),從而提高效率和產(chǎn)生切實(shí)的經(jīng)濟(jì)影響。通過利用包括人工智能和預(yù)測(cè)分析在內(nèi)的最近技術(shù)發(fā)展,我們能夠逐步實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。這將讓各個(gè)行業(yè)和組織的科學(xué)家和工程師可解決一系列難題,如最大程度地提高生產(chǎn)率、開發(fā)更高質(zhì)量的產(chǎn)品及幫助產(chǎn)品更快速地上市。

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