中國粉體網(wǎng)訊 2021年11月19日——為慶祝蔡司成立175周年活動，以 “挑戰(zhàn)想象力的極限”為主題的慶典在中國上海拉開帷幕�？柌趟臼侨蛞暪鈱W和光電子工業(yè)領(lǐng)域知名的科技企業(yè)。上一個財年，蔡司集團半導體制造技術(shù)、工業(yè)質(zhì)量與研究、醫(yī)療技術(shù)、光學消費品市場四大業(yè)務(wù)部門的總營收額逾70億歐元。大家似乎都知道蔡司光學鏡頭在消費電子、醫(yī)療、工業(yè)領(lǐng)域品質(zhì)卓越的表現(xiàn)，但了解蔡司在半導體領(lǐng)域也是重量級玩家的主要就是業(yè)內(nèi)人士了。
蔡司于1968年開始涉足半導體領(lǐng)域，最早是為電路板曝光設(shè)備提供鏡頭。如今，蔡司有哪些重量級產(chǎn)品來參與到半導體制造領(lǐng)域上來呢？今天就帶大家看看蔡司SMT的產(chǎn)品有哪些？能實現(xiàn)什么樣的功能？
蔡司半導體制造部門（SMT）其實一直都在嘗試采用許多新穎的材料來滿足眾多的適用性要求，持續(xù)提供創(chuàng)造性的光學解決方案。Markus Weber 博士，蔡司集團執(zhí)行董事兼SMT部門負責人，強調(diào)：“極紫外光刻技術(shù)（EUV）就是一項面向未來的技術(shù)。其得到了數(shù)千項專利的支持，構(gòu)成了我們?nèi)粘Ｉ顢?shù)字化的基礎(chǔ)。通過支持下一代微芯片的制造，極紫外光刻技術(shù)（EUV）將使得摩爾定律至少再保持十年�！�
目前，蔡司在半導體制造技術(shù)方面的主要產(chǎn)品有用于光罩缺陷定位與驗證的AIMS系統(tǒng)、零缺陷修復的MeRiT系統(tǒng)、提高良率的ForTune光罩微調(diào)解決方案、光罩測量的PROVE解決方案以及增進可靠性的數(shù)字化解決方案。
蔡司AIMS系統(tǒng)
在光罩制程中，缺陷驗證是至關(guān)重要的，了解光罩缺陷在光刻工藝上的影響，確保其在送到光刻機進行曝光前全數(shù)剔除。目前市場僅有AIMS® 系統(tǒng)以其與光刻機等效的光刻環(huán)境及技術(shù)實現(xiàn)各類型光罩缺陷驗證，例如雙模曝光 (Double patterning)、光源暨光罩協(xié)同優(yōu)化技術(shù)(SMO)、以及反演光刻 (Inverse Lithography)。
缺陷復驗、缺陷轉(zhuǎn)印分析以及修復驗證
在248nm、193nm、EUV光源的光刻工藝上，為了確保光罩無缺陷地轉(zhuǎn)印到芯片上，蔡司提供了專業(yè)的解決方案: AIMS®。藉由轉(zhuǎn)印分析，AIMS®能夠精準驗證光罩的缺陷。第一臺蔡司 AIMS于1993年導入，如今此系統(tǒng)已成為標準光罩生產(chǎn)的一道工藝，保證出品至芯片廠使用的光罩無缺陷。
光罩修復高精度電子束應用
蔡司MeRiT系統(tǒng)采用聚焦電子束技術(shù)來修復高端光罩，該技術(shù)是業(yè)內(nèi)先進設(shè)備的代表，通過高端電子腔優(yōu)化最低能量，實現(xiàn)超小缺陷的修復。修復對象包括二元光罩(Binary mask)、移相光罩(Phase-shift mask)和極紫外光罩(EUV mask)上透明或不透明的各種形狀缺陷。通過模塊化軟件結(jié)合圖案復制(pattern copy)功能，MeRiT系統(tǒng)實現(xiàn)了高度自動化。另外，基于用戶配置的操作系統(tǒng)，實現(xiàn)了高度的靈活性，更能保證后續(xù)的光罩類型的用戶擴展。
蔡司ForTune
關(guān)于晶圓代工廠對產(chǎn)線可預見性及可靠性有極高的依賴度。在客戶眼中高良率是晶圓代工廠能力的重要指標，任何導致良率下降的工藝偏差都將嚴重損害客戶對晶圓代工廠能力的信任。在此基礎(chǔ)上，蔡司為您提供了一種創(chuàng)新解決方案，能夠有效防止突發(fā)偏差，提高晶圓產(chǎn)品套刻精度。
高效光罩微調(diào)解決方案
在市場其他可用解決方案的基礎(chǔ)上，通過對光罩進行高橫向分辨率的調(diào)整，蔡司ForTune 能提高晶圓場內(nèi)光刻參數(shù)。它適用于所有包括內(nèi)存DRAM, 3D NAND, XPOINT 及Logic在內(nèi)的各級市場， 并涵蓋以下兩個主要領(lǐng)域：
RegC 應用方案
通過修正光刻機的透鏡特征（Lens fingerprint）及降低晶圓場內(nèi)刻套誤差(OPO, On product overlay)，蔡司ForTune 設(shè)備能增進高階的產(chǎn)品刻套精度(OPO)。
CDC 應用方案
蔡司的ForTune 設(shè)備能有效減少晶圓場內(nèi)CDU導致的工藝缺陷，遵循偏移預防策略，提高良率。
蔡司PROVE光罩量測解決方案
圖案放置是光罩量測中相當重要的一部份。完整的芯片設(shè)計不僅對每一層光罩的特征圖形位置有嚴格的精準度要求，并且為了得到能正常運行的電子組件，一整套產(chǎn)品內(nèi)不同層光罩的套刻有非常嚴格的技術(shù)需求。
高分辨率的對位及套刻量測系統(tǒng)
隨著多重圖案曝光的導入，光罩的復雜圖層將根據(jù)關(guān)鍵尺寸考量被拆分成不同的版圖，不同版圖之間要互相疊對。為了完成這些高精度任務(wù)，量測系統(tǒng)需要在圖像放置量測中具備極高的分辨率及空前的再現(xiàn)性和準確性。
數(shù)字化解決方案
蔡司為用戶提供了幾種基于FAVOR®計算引擎運行的自動化應用程序。通過自動化及賦能技術(shù)，F(xiàn)AVOR® 解決方案能夠提升生產(chǎn)力和穩(wěn)定性。通過減少人工操作及人為失誤，該解決方案可以節(jié)省大量的時間，提升可靠性。此外，模塊化應用能夠為特定生產(chǎn)需求提供定制化解決方案。
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/長安）
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