中國粉體網(wǎng)訊近年來,半導體技術的集成化發(fā)展迅速,制造半導體器件的光刻法工藝得到提升,對半導體器件的材料精度要求也越來越高。光掩膜技術作為半導體技術中的重要組成部分,其制作材料包含玻璃基板、鍍鉻膜層、光刻膠、光學膜等,其中玻璃[更多]
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