中國粉體網(wǎng)訊 光學(xué)掩模板,又稱光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu),是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。[更多]
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