中國粉體網(wǎng)訊多晶硅還原爐反應機理多晶硅還原爐內反應本質上屬于原子范疇的氣態(tài)傳質過程,物料H2和SiHCl3沿著基體硅棒表面由下及上擴散,到達還原爐頂部后再由上及下回到底盤,經(jīng)尾氣管道排出還原爐在連續(xù)反應的過程中,H2和SiH[更多]
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