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        通用型實驗室珠磨機
        通用型實驗室珠磨機

        參考價格

        10-20萬元

        型號

        PML 2

        品牌

        buhler

        產(chǎn)地

        瑞士

        樣本

        暫無
        布勒(無錫)商業(yè)有限公司

        高級會員

        |

        第8年

        |

        代理商

        工商已核實

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        核心參數(shù)
        • 粉碎程度:

          細粉碎
        • 單位能耗:

          -
        • 產(chǎn)量:

          -
        • 裝機功率(kw):

          -
        • 成品細度:

          -
        • 入料粒度(mm):

          -
        • 工作原理:

          介質(zhì)研磨
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        PML 2

        PML 2 是開發(fā)新型濕法研磨工藝的**解決方案。 其核心部件是堅固有力的驅(qū)動器和控制單元,根據(jù)具體用途,它們可與不同的研磨腔結(jié)合使用。 如果用于真實研磨、電子材料的無金屬污染的軟研磨或納米級的應(yīng)用 —— PML 2 即為正確的解決方案。      

        模塊化設(shè)計,應(yīng)用范圍廣

        • PML 2 適用于中低粘度的物料;

        • 可選擇立式或臥式操作位置。

        全容積珠磨機、環(huán)狀研磨腔和納米級珠磨機

        • 現(xiàn)有的加工設(shè)備包括:Centex? 全容積盤片式珠磨機,SuperFlow? 4 作為高性能環(huán)形珠磨機進行再循環(huán)研磨,MicroMedia? L 作為納米級珠磨機,適于 20 到 400 μm 的研磨介質(zhì);

        • 研磨腔容積有小至 50 Ml 的納米珠磨機 MicroMedia? L,也有大到 0.85 l 的全容積珠磨機 Centex? S2。

        試驗參數(shù)的再現(xiàn)性

        • 數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng) WinTrend 可運行 PREMIUM 版本,實現(xiàn)連續(xù)的過程監(jiān)測,確保生產(chǎn)過程可再現(xiàn)。

        研磨腔可選配各種材質(zhì)

        • 現(xiàn)有的研磨腔材質(zhì)包括多種不同的陶瓷、合成材料和硬質(zhì)合金。


        創(chuàng)新點

        ——模塊化設(shè)計,應(yīng)用范圍廣
        —— 模塊可用于全容積珠磨機、環(huán)狀研磨腔和納米級珠磨機
        —— 可再現(xiàn)試驗參數(shù)
        —— 可選配各種材質(zhì)研磨腔

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        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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