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        SGN/思峻GMD2000系列水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)
        SGN/思峻GMD2000系列水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)

        參考價(jià)格

        面議

        型號

        GMD2000/4

        品牌

        SGN/思峻

        產(chǎn)地

        德國

        樣本

        暫無
        上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司.

        會員

        |

        第9年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

        留言詢價(jià)
        核心參數(shù)
        • 能耗:

          2.2KW
        • 處理量:

          0-1000L
        • 物料類型:

          干粉-膏體
        • 工作原理:

          立式
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        水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),環(huán)氧樹脂分散機(jī),水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備,涂料分散機(jī),樹脂分散機(jī)

         

        水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液,三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。                                            


        (價(jià)格電議,劉經(jīng)理13681679740,QQ:428341525)

        QQ截圖20161227083334.jpg


        水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料,一般有四種方式,較為簡單直接的是機(jī)械法,機(jī)械法即直接乳化法,可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預(yù)先磨成微米級的環(huán)氧樹脂粉末,然后加入乳化劑水溶液,再通過機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合,加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,在激烈的攪拌下逐漸加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單,所需乳化劑用量較少,但乳液中環(huán)氧樹脂分散相微粒尺寸較大,粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬,所配得的乳液穩(wěn)定性差,粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象,并且該乳液的成膜性能也欠佳。
         

        當(dāng)然,機(jī)械法存在的問題是可以很好的去解決的,乳液穩(wěn)定性差,可以說明兩個(gè)原因,一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化,二是水性環(huán)氧樹脂沒有更好的分散到水中,形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題,使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一,形成兩級的設(shè)備,**級為膠體磨磨頭,實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能;第二級為分散機(jī)分散盤,實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。

           

        水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),接觸過SGN上海思峻的人都知道,SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較高端的設(shè)備,SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。
         

        涂料分散機(jī).jpg

        SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度,以及**級磨頭,特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。**級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。     磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。第二級分散盤,無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。

         

        GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

         

        型號

        流量

        L/H

        轉(zhuǎn)速

        rpm

        線速度

        m/s

        功率

        kw

        入/出口連接

        DN

        GMD2000/4

        300

        9000

        23

        2.2

        DN25/DN15

        GMD2000/5

        1000

        6000

        23

        7.5

        DN40/DN32

        GMD2000/10

        2000

        4200

        23

        22

        DN80/DN65

        GMD2000/20

        5000

        2850

        23

        37

        DN80/DN65

        GMD2000/30

        8000

        1420

        23

        55

        DN150/DN125

        GMD2000/50

        15000

        1100

        23

        110

        DN200/DN150


        水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),環(huán)氧樹脂分散機(jī),水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備,涂料分散機(jī),樹脂分散機(jī),用SGN高速剪切研磨分散機(jī)可獲得納米級水性環(huán)氧樹脂涂料。


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