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            光學設計
            光學設計

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            型號

            光學設計

            品牌

            坦普瑞

            產(chǎn)地

            上海

            樣本

            暫無
            坦普瑞(上海)光電科技有限公司

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             擁有多位資深的光學設計專家,可以為客戶提供專業(yè)化的光學系統(tǒng)設計服務以及產(chǎn)品的定制服務。光學設計項目:成像光學設計:紅外鏡頭,手機鏡頭,指紋儀鏡頭,照相鏡頭,CCTV鏡頭,望遠鏡頭,掃描儀鏡頭,顯微鏡頭,投影鏡頭,工業(yè)鏡頭等成像系統(tǒng)的設計。

            詳細參數(shù)
            儀器指標
            檢測項目
            超高精密自動測角儀( PrismMaster HR MOT Goniometer)
            測量工作臺直徑:Φ200mm;單次測量**精度:0.5";多次測量**精度:>0.2";測量范圍:0°~360°任意角度;微調(diào)旋鈕轉(zhuǎn)動精調(diào):+/-30″
            測量棱鏡、多邊棱鏡、光楔、窗口以及其他平面光學器件
            光學測量工作站( Optical Test Station)
            工作波長:525nm;  焦距:測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3%
            后截距及法蘭焦距(BFL/FFL):測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3%
            曲率半徑:測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.03%~±0.3% 
            驅(qū)動的XY臺面:移動范圍:200mm×150mm,分辨率:1μm
            測量柱面和球面透鏡的:焦距( EFL )、后截距及法蘭焦距( BFL , FFL )、正/負曲率半徑:對于柱面鏡,額外測量功能:中心偏差(柱軸的頂線與參照面之間的偏差,參照面可為柱面鏡的外沿面)、柱袖與機械參考線的扭轉(zhuǎn)角度。
            通用途紫外/可見光傳遞函數(shù)測試儀(IS-300 UV/VIS MTF TESTSYSTEM)
            可測量參數(shù):MTF、**焦平面、場曲、象散、色差、畸變、EFL等;MTF測量精度:+/-0.02MIF;MTF測量重復性:+/-0.01MTF;
            場曲:優(yōu)于+/-5μm;畸變:優(yōu)于+/-0.5%;焦距測量范圍:3mm~1000mm;**數(shù)值孔徑:0.85
            在可見光及紫外波段對光學系統(tǒng)或光學組件的傳遞函數(shù)、焦距和畸變等參數(shù)進行測量
            鏡面定位儀( LENSCAN System)
            測量范圍:0~600mm光學長度;測量精度:+/-0.15μm;測試重復性:標準偏差 STDEV<100nm(30次測量)
            主要用于光學系統(tǒng)中的透鏡間隔和厚度測量
            超高精密全自動球徑儀( Automatic Spherometer)
            曲率半徑測量精度:0.005%;半徑測量范圍:凸:+3mm~無限;凹:-6mm~無限
            用于高精度光學樣板曲率半徑測量和光學元件曲率半徑檢驗
            大口徑激光干涉儀( Verifire XP/D Interferometer)
            三平板重復性:<2nm,λ/300;RMS重復性:<0.1nm,λ/10,000;條紋分辨率:180條紋;分辨率:>λ/8,000( 二次通過);相干長度:>100m
            精密測量各種反射面和光學系統(tǒng)的表面面形、精密測量光學系統(tǒng)的傳輸波前
            菲索型動態(tài)干涉儀( Intellium     H2000 Interferometer)
            測量元件反射率范圍:0.1%-100%;測試精度PV值優(yōu)于100; 1K*1K空間分辨率,優(yōu)于300的條紋分辨率;相干長度:>328ft(100m)
            測量光學件表面、機械拋光表面和半導體晶片表面
            橢偏儀( Ellipsometer)
            光譜范圍:190-1100nm;樣品**直徑:200mm;自動變角范圍:15°~90°;單色光源的焦距:160mm
            用于研究分析半導體、電介質(zhì)、聚合物、金屬、多層膜等材料的特性,可測量其透射、反射、相位延遲量、雙折射、退偏、散射和穆勒矩陣等
            TESA VISIO 300 GL同軸變焦型影像測量儀
            XY平面精度:(2.0+4L/1000)μm,(L單位為mm);z軸精度(2.9+5L/1000)μm,(L單位為mm);
            測量范圍300X200X150mm(X/Y/Z);工作臺表面尺寸:510x480m(X/Y);工作臺承重:16公斤;
            通過光學成像完成非接觸測量,特別適合于沖壓件,塑料件,注塑件和絲膜印刷,電子等行業(yè)的測量要求
            非球面檢測儀( LuphoScan measuring system)
            精度(光束入射角度<2°):拋光:Ra<1μm  1μm≤Ra≤3μm  ±50mm  ±250nm  ±1μm ;測量范圍:420mm(直徑)×80mm(高度);
            重復性:±20nm(2σ);縱向分辨率:0.1nm;光斑大小:4μm;**測試口徑:420mm
            用于旋轉(zhuǎn)對稱表面的光學鏡片面形測量,包括球面、非球面、平面、柱面、錐面等
            LAS激光定心裝配工作臺( Laser Alignment and Assembly Station)
            測量精度:TIR 0.5um;直線導軌:1250mm;有效工作空間:1.0m;樣品臺:Φ400mm;空氣軸承,承重:900kg;
            軸向/徑向跳動精度:0.05m,軸晃動:0.025um/25mm;高精度杠桿表:0.1um
            用于光學系統(tǒng)單元裝配、系統(tǒng)調(diào)試過程中光學元件中心偏差的精密測量和校正
            粗糙度微輪廓儀( Surface Profiler)
            測量范圍:**可測直徑Φ300mm;測量陡度:**可測70°;球面測量的重復性:<100nm
            用于光學元件的表面粗糙度和面形測量


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