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            DYNO?-MILL ECM-AP 05實(shí)驗(yàn)室用研磨機(jī)
            DYNO?-MILL ECM-AP 05實(shí)驗(yàn)室用研磨機(jī)

            參考價(jià)格

            60-70萬(wàn)元

            型號(hào)

            ECM-AP 05

            品牌

            華爾寶(WAB)

            產(chǎn)地

            瑞士

            樣本

            【下載】
            華爾寶機(jī)械(深圳)有限公司

            金牌會(huì)員

            |

            第15年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

            留言詢價(jià)
            核心參數(shù)
            • 粉碎程度:

              超細(xì)粉碎
            • 單位能耗:

              每小時(shí)耗電量在2-4度左右
            • 產(chǎn)量:

              20-100kg/h
            • 裝機(jī)功率(kw):

              4
            • 成品細(xì)度:

              納米級(jí)
            • 入料粒度(mm):

              最大0.5
            • 工作原理:

              介質(zhì)研磨
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            DYNO?-MILL ECM-AP 05


            實(shí)驗(yàn)室珠磨機(jī)是發(fā)小批量產(chǎn)品新配方和計(jì)算產(chǎn)品放大系數(shù)的理想之選。

             

            它能達(dá)到理想的納米級(jí)粒徑分布,并能以高效的能量輸入完成非常困難的分散和研磨任務(wù)。它是 DYNO?-MILL ECM-AP 系列的放大模型。其機(jī)座允許使用帶有 DYNO?-UNIVERSAL 技術(shù)的第二個(gè)研磨缸,在實(shí)驗(yàn)室中具有非常高的靈活性和成本效益。

            功能

            研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點(diǎn)是流動(dòng)優(yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán),而不會(huì)將其撕裂。

             

            研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨(dú)特的自清潔效果的基礎(chǔ)。


            優(yōu)勢(shì)

            • 適用于高產(chǎn)量和高粘度產(chǎn)品

            • 提供金屬和陶瓷款式

            • 研磨腔內(nèi)研磨介質(zhì)密度分布均勻,研磨效率高

            • 可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質(zhì)進(jìn)行高效研磨

            • 加速器使研磨珠產(chǎn)生有力的流體運(yùn)動(dòng),從而降低的能耗

            • 整體優(yōu)化流量控制,實(shí)現(xiàn)理想的顆粒停留時(shí)間分布

            • 適用于生產(chǎn)所有類型的納米懸浮液

            • 適合通道模式和循環(huán)模式

            • 通過對(duì)研磨腔進(jìn)行有效冷卻,可研磨對(duì)溫度敏感的產(chǎn)品

            • 機(jī)器操作簡(jiǎn)單且符合人體工程學(xué)原理,可實(shí)現(xiàn)快速的產(chǎn)品更換

            • 篩網(wǎng)壽命長(zhǎng)

            • 在更換產(chǎn)品時(shí),可降低清潔劑的使用成本

            • 低噪音

            • 多種控制解決方案




            創(chuàng)新點(diǎn)

            適用于高產(chǎn)量和高粘度產(chǎn)品

            提供金屬和陶瓷款式

            研磨腔內(nèi)研磨介質(zhì)密度分布均勻,可實(shí)現(xiàn)最高效率

            可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質(zhì)進(jìn)行高效研磨

            加速器使研磨珠產(chǎn)生有力的流體運(yùn)動(dòng),從而降低的能耗

            整體優(yōu)化流量控制,實(shí)現(xiàn)最佳顆粒停留時(shí)間分布

            適用于生產(chǎn)所有類型的納米懸浮液

            適合通道模式和循環(huán)模式

            通過對(duì)研磨腔進(jìn)行有效冷卻,可研磨對(duì)溫度敏感的產(chǎn)品

            機(jī)器操作簡(jiǎn)單且符合人體工程學(xué)原理,可實(shí)現(xiàn)最快的產(chǎn)品更換

            屏幕壽命長(zhǎng)

            在更換產(chǎn)品時(shí)將清潔劑的成本降至最低

            低噪音

            多種控制解決方案

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            用戶評(píng)論

            產(chǎn)品質(zhì)量

            10分

            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

            10分
            評(píng)論內(nèi)容
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            從納米到藥物產(chǎn)品: GLATT 和 WAB-GROUP?共同攜手合作為制藥業(yè)提供獨(dú)特的解決方案

            WAB-GROUP? 和 Glatt Pharmaceutical Services CDMO Unlimited 強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手,運(yùn)用他們的專業(yè)知識(shí)為您提供高端納米研磨和顆粒設(shè)計(jì)服務(wù),以提高藥物的溶解度。

            技術(shù)文章
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