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        垂直氧化爐—8寸
        垂直氧化爐—8寸

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        面議

        型號(hào)

        垂直氧化爐—8寸

        品牌

        華旗科技

        產(chǎn)地

        山東

        樣本

        暫無(wú)
        青島華旗科技有限公司

        高級(jí)會(huì)員

        |

        第1年

        |

        生產(chǎn)商

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        垂直氧化系統(tǒng)用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領(lǐng)域,6"、8"晶圓的氧化、合金、退火等工藝。

        產(chǎn)品性能:

        *垂直結(jié)構(gòu),高效產(chǎn)能,150片/批

        *穩(wěn)定優(yōu)良的成膜均勻性,重復(fù)性好

        *微環(huán)境低氧控制先進(jìn)技術(shù)

        *硅片顆粒度控制穩(wěn)定,國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

        *全自動(dòng)流程,盒對(duì)盒,AGV對(duì)接

        配套工藝:


        *氧化:干氧/濕氧(DCE, HCL)

        *氮、氫退火,燒結(jié)、合金,固化等

        *快速熱退火


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        10分

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