參考價(jià)格
面議型號(hào)
Phenom MAPS品牌
飛納產(chǎn)地
荷蘭樣本
暫無(wú)探測(cè)器:
*加速電壓:
*電子槍:
*電子光學(xué)放大:
*光學(xué)放大:
*分辨率:
*看了Phenom MAPS 大面積圖像拼接的用戶又看了
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Phenom MAPS 系統(tǒng)
多模態(tài)多維度地圖式圖像?動(dòng)采集及拼接軟件Phenom MAPS 作為?款多模態(tài)多維度地圖式圖像
? 動(dòng) 采 集 及 拼 接 軟 件 , 可 ? 動(dòng) 獲 取 ? 型 圖 像 數(shù) 據(jù)集 , 并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像 、 分析模式 , 從?提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
該軟件?持 Phenom 全系列臺(tái)式掃描電?顯微鏡型號(hào) , 包 括 Phenom XL G2 、 Phenom Pharos G2和 Phenom ProX。 歡迎聯(lián)系我們升級(jí)體驗(yàn)。
MAPS 核?功能
Phenom MAPS 軟件提供:
??積?動(dòng)數(shù)據(jù)采集: 實(shí)現(xiàn)?動(dòng)化?縫全景拼圖和??積 EDS 能譜數(shù)據(jù)采集
CISA 多平臺(tái)數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián): 光鏡、 拉曼、紅外、XPS ,甚? CAD 或?繪草圖 ,通通可以關(guān)聯(lián) 多尺度成像?動(dòng)化: 軟件提供全?動(dòng)的?質(zhì)量、 多尺度成像解決?案
跨平臺(tái)設(shè)備連接: 不同設(shè)備之間可以進(jìn)?以樣品為中?的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)處理?作
離線數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)管理: MAPS 軟件的離線版本?便您隨時(shí)進(jìn)?數(shù)據(jù)處理并規(guī)劃下?次成像?作
?動(dòng)數(shù)據(jù)采集
??可以在各種樣本上設(shè)置和運(yùn)?多個(gè)圖塊集 , 實(shí)現(xiàn)?動(dòng)化 、 ??值守的儀器作業(yè) , 優(yōu)化設(shè) 備操作時(shí)間 , 獲取?質(zhì)量數(shù)據(jù)。
?動(dòng)數(shù)據(jù)采集技術(shù)讓您?需花費(fèi)數(shù)?時(shí)搜索感興趣的區(qū)域 , 可以快速輕松拍攝??積拼圖的 同時(shí)還能夠?動(dòng)收集選定區(qū)域的?分辨率數(shù)據(jù)。
此外 , Phenom MAPS 軟件的離線功能可以幫 您 將 數(shù) 據(jù) 從 設(shè) 備 中 導(dǎo) 出 并 在 任 意 ? 臺(tái) PC 中 隨 時(shí)進(jìn)?數(shù)據(jù)分析。 您可以在 MAPS 軟件中標(biāo)注 數(shù)據(jù)并選擇新的區(qū)域進(jìn)?數(shù)據(jù)采集 。 該軟件還 可以進(jìn)?多個(gè)數(shù)據(jù)集的?視野圖像?動(dòng)拼接和 導(dǎo)出 , 提供多種拼接算法和導(dǎo)出選項(xiàng) , 可以導(dǎo) 出 RAW、tile TIFF 或 HD 視圖的兼容格式。
應(yīng)? SEM-EDS 互聯(lián)功能進(jìn)?材料表征
與傳統(tǒng)技術(shù)相? , Phenom MAPS 軟件可以幫助您更快地獲取低倍率 、 ??積的 EDS 能譜 圖 , 從?直觀地顯?整個(gè)樣品中的元素分布。(以礦物樣品分析為例)
圖2 . MAPS ??積能譜拼圖結(jié)果
數(shù)據(jù)收集后 ,通過(guò) Phenom MAPS 軟件進(jìn)?進(jìn)?步 的定量 EDS 分析。
圖3 . ?持離線數(shù)據(jù)處理: 將 EDS 數(shù)據(jù)導(dǎo)? Phenom 臺(tái)式掃描電鏡的 UI 中
MAPS CISA 多平臺(tái)數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)
光鏡、 拉曼、 紅外、XPS , 甚? CAD 或?繪草圖 , 通通可以關(guān)聯(lián)。
下圖案例: 通過(guò) MAPS CISA , 將 SEM 和 XPS ?分布以及全譜分析的功能相結(jié)合 , 分析多孔 砂粒?的表?組成和形貌。
通 過(guò) 結(jié) 合 XPS 和 SEM 的 分 析 , 可 以 精 確 地 將 化 學(xué) 信 息 與 顯微 鏡 提 供 的 ? 分 辨 率 結(jié) 構(gòu) 信 息 融合 。 CISA 關(guān)聯(lián)?作流程尤其適?于研究電池 、 ?分?材料 、 催化劑和?屬等樣品的材料 研究。
應(yīng) ? 案例: 使 ? Phenom MAPS 軟件 分析 傷?敷料中銀的分布
含 銀 的傷 ? 敷 料 是 ? 種 先 進(jìn) 的 愈 合 技 術(shù) , 利 ? 銀 的 抗 菌 特 性 來(lái) 預(yù)防感染。
這 些 敷 料 由 包 括 傷 ? 墊 的 多 層 組 成 , 傷 ? 墊 含 有 銀 , 由 吸 收 液 體 的 ? 紡 布 聚 合 物 纖 維 制 成 。 這 些 纖 維 通 過(guò) 聚 ? 烯 ? 膜與傷?隔開 , 防?傷?墊粘在傷?上。
此類敷料的有效性取決于銀的物理和化學(xué)特性以及銀在敷 料 中 的 分 布 情 況 。 如 果 銀 離 ? 濃 度 過(guò) ? , 則 離 ? 可 能 會(huì) 從 敷料中釋放出來(lái)并導(dǎo)致細(xì)胞毒性作? 。
5 . 含銀的傷?墊可防?感染
利??納臺(tái)式掃描電鏡的 MAPS 軟件可以創(chuàng)建?分辨率 EDS 圖 , 顯?銀在傷?敷料中的 分 布 情 況 。 如 下 圖 所 ? , 銀 (以 粉 紅 ? 顯 ? ) 排 列 在 聚 ? 烯 ? 的 邊 緣 。 這 可 以 表 征 敷 料 的質(zhì)量及其與銀離?控制釋放的關(guān)系。
圖6 . ?縫全景拼圖: ??積 SEM 傷?敷料拼圖穿孔 ?膜后?是聚合物纖維圖7 . ??積 EDS 圖與 MAPS 軟件中??積敷料能 譜拼圖 ,粉?顯?了銀的分布
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
今年 11 月 2 日起,每日早七點(diǎn)至晚八點(diǎn),包括延安高架、南北高架在內(nèi)的多條道路禁止“外牌”、“臨牌”小客車、未載客的出租車等通行。因?yàn)樾履茉雌囓嚺戚^容易獲得,不少人轉(zhuǎn)投新能源汽車,因此帶動(dòng)了新能
2020-12-21
隨著鋼鐵行業(yè)進(jìn)入微利時(shí)代,生產(chǎn)具有更高附加值的高品質(zhì)潔凈鋼也成為鋼鐵企業(yè)自身發(fā)展的需求。因此,潔凈鋼技術(shù)研究及其生產(chǎn)工藝控制技術(shù)目前已是各鋼鐵企業(yè)的重要課題。生產(chǎn)潔凈鋼的關(guān)鍵在于減少鋼中的雜質(zhì),而控制
2020-12-21
2020-12-21
今天,我們激動(dòng)地推出一款革命性的新產(chǎn)品——Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī),這是一款將 SEM 與 AFM 結(jié)合的全新設(shè)備,它將開啟臺(tái)式電鏡原位關(guān)聯(lián)的新時(shí)代,為樣品分析帶來(lái)前所未有的
【微觀敘事者:復(fù)納科技2025顯微圖像挑戰(zhàn)賽】即日開啟!不限品牌型號(hào)投稿,50%中獎(jiǎng),豐厚獎(jiǎng)金等你挑戰(zhàn)! 羽毛的紋理,是風(fēng)與生命私語(yǔ)的痕跡;礦石的脈絡(luò),是地質(zhì)變遷書寫的篇章。在我們?nèi)庋蹮o(wú)法企
文章轉(zhuǎn)自:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)工程與材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)中心 發(fā)布時(shí)間:2024-12-02最近,由世界最著名臺(tái)式電鏡制造商提供的飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡巡展及免費(fèi)測(cè)樣活動(dòng)在中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)工程與材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)中心(
在材料科學(xué)和工程領(lǐng)域,對(duì)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)的深入理解對(duì)于新材料的開發(fā)和現(xiàn)有材料性能的提升至關(guān)重要。顯微計(jì)算機(jī)斷層掃描(Micro-CT)技術(shù)作為一種先進(jìn)的成像工具,能夠在不破壞樣品的情況下,揭示材料內(nèi)部的微
如之前【飛納電鏡:從飛利浦到賽默飛,是最“老”的電鏡,也是最“新”的電鏡(上篇)】的介紹,飛納電鏡繼承荷蘭飛利浦和 FEI 三倉(cāng)分離和逐級(jí)抽真空專利設(shè)計(jì),可以實(shí)現(xiàn) 15 秒抽真空 30 秒成像,這是目
自 20 世紀(jì) 90 年代初投入商業(yè)使用以來(lái),鋰離子電池的性能得到了顯著提升。美國(guó)能源部 (DOE) 車輛技術(shù)辦公室 (VTO) 估計(jì),2008 年至 2020 年間,鋰離子電池組的能量密度將增加 8