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        CVD銅基底石墨烯薄膜
        CVD銅基底石墨烯薄膜

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        面議

        型號

        CVD銅基底石墨烯薄膜

        品牌

        廣東墨睿

        產(chǎn)地

        廣東

        樣本

        暫無
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        • 制作方法:

          -
        • 質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

          -
        • 純度:

          -
        • 目數(shù):

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        產(chǎn)品特點

        1、單層,晶格缺陷少,接近本征石墨烯;

        2、可見光透過率高,導(dǎo)電性良好;

        3、加工性好,可以轉(zhuǎn)移在不同的基材上。


        特征與優(yōu)勢

        CVD銅基底石墨烯薄膜的制備,采用化學(xué)氣相沉積法,將碳源高溫分解沉積在銅基底表面,形成了二維碳原子層。CVD銅基底石墨烯薄膜的單層率高,品質(zhì)優(yōu)異,可實現(xiàn)石墨烯大面積生長,且較易轉(zhuǎn)移到其它各種基材上使用。


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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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