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集成電路刻蝕用硅材料長(zhǎng)晶爐MSIR1050系列品牌
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◆ 設(shè)備采用坩堝下降法，多溫區(qū)控溫，通過優(yōu)化氣路設(shè)計(jì)，可有效避免熱場(chǎng)和晶體的相互污染；
◆ 自動(dòng)化程度高，可根據(jù)需要定制晶體形狀，提高效率和原料的利用率。
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