制作方法:
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在材料產(chǎn)品中,CVD-SiC是頗具成長性的產(chǎn)品,該產(chǎn)品可作為半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的治具及部件。碳化硅是硅和碳1:1結(jié)合構(gòu)成的一種化合物,其硬度僅次于鉆石和碳化硼。Ferrotec應(yīng)用含有硅和碳的氣體即CVD工藝法來進(jìn)行制造。以硅片為例,采用CVD法將碳化硅涂覆在加工成圓盤狀的石墨基材表面,切削外緣后,通過高溫氧化除去石墨基材,再經(jīng)過數(shù)道后續(xù)加工,硅片就完成了。在能源等高端產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,碳化硅這種高純度材料受到越來越多的關(guān)注。
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