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拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430品牌
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設備的應用及特點：
應用
本設備適合156-210mm硅片生產(chǎn)，相比常規(guī)豎直插片具有更高的鍍膜均勻性，能幫助客戶提升高效太陽能電池的效率、集中性、和EL良率。本設備具有行業(yè)內(nèi)**產(chǎn)能，能幫助客戶降低固定資產(chǎn)投入和運營成本。
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