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        微電極拋光儀MF-830
        微電極拋光儀MF-830

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        香港友誠生物科技有限公司

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        微電極拉制儀(Microforge)拉制出的電極,電極的尖端往往不是很光滑。為了能與細(xì)胞膜間形成穩(wěn)定可靠的封接,一般拉制出的微電極需要對其尖端進(jìn)行拋光處理,尤其是進(jìn)行單通道記錄時的微電極更需要進(jìn)行拋光,此時需要使用微電極拋光儀。單通道記錄中還需要在微電極尖端涂上疏水性硅酮樹脂(Sylgard)以減小跨壁電容(Transmural capacitance)帶來的噪聲,此時要注意先涂Sylgard后拋光。

        微電極拋光儀應(yīng)用范圍:微電極拉制儀拉出的電極,在電極的尖端,往往不是很光滑。因此拉制出的微電極必須進(jìn)行細(xì)致的拋光處理,以保證高阻封接的質(zhì)量,同時還可使封接保持長時間的穩(wěn)定。在一些實驗中還需要在微電極尖端涂上(Coating)疏水硅膠樹脂(Sylgard)以減小跨壁電容(Transmural capacitance)帶來的噪聲.

        微電極拋光儀主要特點:

        1. 目鏡:15X,物鏡變焦倍數(shù): 5X 35X

        2. 放大倍數(shù):75 --- 5253. 加熱操作器移動距離: X 14mm, Y14mm, Z14mm4. 電極操作器移動距離:Y12mm, Z28mm

        5. **工作距離:0 – 30mm

        6. 操作方便,設(shè)計合理

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