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工作原理
激光剝蝕技術LA及激光誘導擊穿光譜LIBS相結合,J200接收等離子體發(fā)射光進行快速光譜分析,同時將激光剝蝕顆粒高效傳輸至ICP-MS系統。
主要特點:
J200具有LA和LIBS雙系統測量能力,可以單獨運行LA 或LIBS,或者同時運行LA- LIBS復合系統。激光fs 或ns可選。
樣品自動對焦、高度自動調整、光斑大小調節(jié)。
可對固、液、氣樣品進行全元素LIBS快速檢測,同時可將固體樣品的剝蝕顆?;蛘咭后w樣品直接送入ICP-MS系統,實現ppb級精確分析。
可用于分析元素周期表中的所有元素。
ASI數據分析軟件可在一個數據分析平臺進行,分析LIBS和LA數據;可進行快速映射功能。
應用領域
復雜樣本的定性和定量分析
制造質量控制:制藥、生物技術、電子、太陽能、薄膜等
污染控制
土壤、植物和礦物分析
玻璃、油漆和其他痕跡證據的法醫(yī)分析
材料來源確定
學術界、政府和商業(yè)企業(yè)研究和實驗室分析
性能指標
激光系統 | |||
**能量 | 25mJ@ 266nm;能量輸出 0-100%可調 | 重現率 | 20Hz,脈寬<6ns(FWHM),DI 水冷卻系統 |
能量控制 | 光學衰減連續(xù)可變 | 光斑大小控制 | 35-250 微米可調(到達樣品表面的燒蝕光斑直徑) |
激光光閘 | 自動雙光閘,穩(wěn)定控制激光能量和 LIBS 信號測量 | 激光安全 | I 級,樣品放置區(qū)域有濾光器,有激光鎖定保護 |
檢測器系統 | |
譜寬190-1040 nm | 測量過程不不受環(huán)境溫度變化的影響 |
分辨率λ/Δλ高達 6000 | 光譜精度優(yōu)于±0.05nm |
雜散光抑制 | 探測器門控 |
門延時為0.5ns-1ms | 分辨率 0.5 ns |
樣品平臺系統 | |
全自動 XYZ 行程 | XY 行程 100mmx100mm,Z 行程 35mm |
XY 行程分辨率 0.2um,Z 行程分辨率 0.2um | XY 行程重現率 0.2um,Z 行程重現率 0.2um |
速度 0.001-20 mm/s | 氣壓可控 |
樣品放置區(qū)域有濾光器,有激光鎖定保護功能 | 含高效空氣顆粒清潔器 |
具備專配 670 納米激光協助樣品高度自動調整功能 | |
雙 CMOS 相機,廣角用于定位采樣區(qū)域,高倍成像用于觀察某一特定區(qū)域。并可在電腦屏幕上實時觀察樣品燒蝕過程 | |
樣品池-可充氦氣或氬氣惰性氣體保護;鋰電池樣品需要保持在無水,無氧的條件下進行測量。測量碳,氮,氧,氫,氟等元素時;樣品池需要保持在氦氣氣氛中。 |
操作軟件 | |
激光自動采樣設置 | 單點、網格、光柵狀、線性掃描或用戶自定義設置 |
數據處理系統 | 包含譜線自動識別功能、光譜處理功能、LIBS 的強度監(jiān)測、化學統計功能等 |
元素制圖及深度分析控制 | 包含84種元素的Trulibs™光譜數據庫和LIBS NIST 理論數據庫(涵蓋所有元素) |
設置預脈沖個數用來清洗樣品表面污染物 | 高度自動化的測量功能 |
元素特征線的自動標定、標準曲線建立(單變量和多變量校準曲線)、主成分回歸功能可用于樣品分類 |
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