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高級薄膜測定系統(tǒng)

NKD-8000系統(tǒng)綜合了光學(xué)、電子學(xué)和高級分析軟件，是目前測定多層薄膜和基片的折射率、吸收系數(shù)和厚度*精確、*易用的系統(tǒng)。NKD-8000系列產(chǎn)品具有全自動、可同時測定透過光譜和反射光譜，入射光角度從0°到90°連續(xù)改變。對分光光譜儀而言，這是一項(xiàng)****的新功能，使得NKD-8000適用于**挑戰(zhàn)性的光學(xué)測量。對多層薄膜和基片的n、k和d的測定變得準(zhǔn)確、快捷。

技術(shù)參數(shù)：

光譜范圍

NKD-8000 350nm—1000nm ( 標(biāo)準(zhǔn)模式 )

NKD-8000v 280nm—1000nm ( 紫外增強(qiáng)型)

NKD-8000r 800nm—1700nm ( 紅 外 型 )

NKD-8000w 350nm—1700nm (寬光譜 型 )

NKD-8000e 350nm—2200nm (超寬光譜 型 )

注：寬光譜型提供兩個檢測器，可以覆蓋350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (僅適用nkd-8000e)，但二者不能同時用。

獲得數(shù)據(jù)時間

2—10分鐘，這取決于光譜范圍和不同選件

數(shù)據(jù)分析時間

5秒—5分鐘，取決于數(shù)據(jù)的復(fù)雜程度

光譜分辨率

1nm或2nm （可選）

光源

NKD-8000v 150W 氙弧燈

其他 高穩(wěn)態(tài)100W石英鎢鹵燈

樣品尺寸

10×10mm到200×250mm標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)，100mm 直徑樣品的掃描臺

層數(shù)

至多5層，兩個未知參數(shù)

薄膜厚度范圍

1nm到25um，取決于角度、偏振和波長

1nm 需要增加橢偏模塊

基片

透明、半透明或半吸收或半導(dǎo)體

材料

電介質(zhì)、高聚物、半導(dǎo)體和金屬

精確度

對于半吸收薄膜 典型 **

薄膜厚度 ＜1% ＜3%

折射率 ＜0.1% ＜1%

消光系數(shù) ＜1% ＜3%

對于金屬薄膜

薄膜厚度 ＜1% ＜3%

折射率 ＜1% ＜3%

消光系數(shù) ＜1% ＜3%

重現(xiàn)性

透射率 ＜0.01% ＜0.1%

反射率 ＜0.01% ＜1%

折射系數(shù) ＜0.01% ＜0.1%

入射光角度

30°、50°或70°（標(biāo)準(zhǔn)單元）或由客戶指定的從

20°到70°連續(xù)可變（可變角版本）或3個位置角度

樣品上的光斑尺寸

5mm(標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng))，250um（選件）

電源

220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A

外觀尺寸

890×540×720mm

重量

105Kg

選件

多角度，可變角度，X-Y樣品掃描臺，多種標(biāo)準(zhǔn)尺寸品架。樣品觀測顯微鏡。手動或全軟件控制的偏振選件（s-、p-或非偏振）。樣品加熱臺。臺式機(jī)或工業(yè)PC。

主要特點(diǎn)：

主要特點(diǎn)

◆ 可測定波長范圍從280nm到2300nm的透射和反射光譜

◆ 在同一區(qū)域可同時測定T和R值

◆ 可對折射率(n)，吸收系數(shù)(k) 和厚度(d)進(jìn)行準(zhǔn)確測定

◆ 樣品可在X-Y掃描臺上進(jìn)行掃描

◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和從0°到90°的連續(xù)變化的角度

◆ 可用s-、p-或非偏振光作為入射光對T和R進(jìn)行測定

◆ 可對透明基片進(jìn)行測定且不需要對樣品進(jìn)行前處理

◆ 內(nèi)建的材料數(shù)據(jù)庫

◆ 密封的樣品室

◆ 可選擇散射模式

◆ 具有在線或離線分析功能

對T和R同時測定

KD-8000系統(tǒng)在同一個光斑處，同時對透過光譜和發(fā)射光譜進(jìn)行測定，保證了兩套數(shù)據(jù)具有直接的相關(guān)性。通過測定這些光譜，全自動的控制和分析軟件系統(tǒng)可以從中得到n、k和d值。而且所有這些都源自同一次測定。不同散射模式的選擇使得對寬廣范圍材料的分析成為可能，而且用戶可以選擇缺省模式或者高級分析模式。

功能強(qiáng)大的Pro-OptixTM控制和分析軟件系統(tǒng)包括一個可編輯的數(shù)據(jù)庫，它允許對材料進(jìn)行預(yù)先定義，以提高分析速度。該軟件的其他特點(diǎn)包括顏色的匹配和太陽光的計算以及金屬薄膜的算法。樣品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而無需對它們特殊處理。

NKD-8000是**一款能全部提供上述功能的分光型光學(xué)薄膜分析系統(tǒng)，它為薄膜表征設(shè)立了一個標(biāo)準(zhǔn)。

可變的入射光角度

①反射光檢測 ②光束管 ③Y軸坐標(biāo) ④透射光檢測器 ⑤Z軸坐標(biāo) ⑥X軸坐標(biāo) ⑦樣品臺 ⑧馬達(dá)驅(qū)動的可變角度選擇裝置

NKD-8000系統(tǒng)提供可變的角度選擇裝置，它提供完全馬達(dá)驅(qū)動的，可由PC機(jī)控制入射光的角度，入射角度從從0°到90°可自由選擇。

通過使用分析軟件中的集成工具就可實(shí)現(xiàn)對T和R的s-偏振光譜和p-偏振光譜進(jìn)行獨(dú)立分析或二者一起分析。

通過作為選件的X-Y掃描臺可以對大尺寸樣品進(jìn)行掃描，樣品在X、Y兩個方向上的**行程是100mm，同時保持入射光斑始終位于行程的中間。

在測定時有許多樣品架備選，它們可以夾持不同類型尺寸的樣品。全PC控制使這種方法對整個樣品的數(shù)據(jù)收集和分析變得簡單、準(zhǔn)確和快捷。

多個角度

如果在應(yīng)用中只需一些不連續(xù)的入射光角度，那么多角度選件可以提供一個滿意的解決方案。從0°到90°，用戶可自定義三個入射光角度。

附件

熱臺：可控制樣品溫度至150度，測定變溫下的T和R，對測定光學(xué)涂層和基體的光譜位移十分有用。

顯微鏡/相機(jī)：對樣品進(jìn)行顯微分析。

微光斑附件：將入射光斑聚焦至200微米，特別適合表征微小樣品和局部區(qū)域。