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208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到*小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制，并**程度減小充電效應。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設計使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
Pt/Pd：非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
Cr：優(yōu)良的半導體樣品的鍍膜材料
Ir：優(yōu)良的真正無細晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一、主要特性
·可選擇多種鍍膜材料
·精確的膜厚控制
·樣品臺控制靈活：可對樣品臺進行獨立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。
·多個樣品臺：提供4個樣品臺，每個樣品臺直徑32mm，可裝載多達6個小樣品座。
·樣品室?guī)缀慰勺儯?/span>樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
·寬范圍的操作壓力：獨立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
·緊湊、現(xiàn)代的桌上型設計
·操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) | |
鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
靶材 | Cr， Pt/Pd (標配) Ta， Au， Au/Pd， Pt， W， Ir ， Ti（選配） |
鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA） |
樣品室大小 | 直徑150mm 高度165 - 250mm |
樣品臺 | 非重復的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動，并可手動傾斜0-90°轉(zhuǎn)動速度可調(diào)晶體頭 4個樣品臺 |
模擬計量 | 真空 Atm - .001mb 電流 0-100mA |
控制方法 | 自動氣體凈化和泄氣功能 自動處理排序 帶有“暫停”功能的數(shù)字計時器 自動放氣 |
膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
真空系統(tǒng) | |
結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配） |
抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
抽真空時間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
極限真空 | 1 x 10-5mbar |
桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺上，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
膜厚測控儀 | |
MTM-20 | 基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率 |
膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm |
分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 |
修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 |
鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm |
系統(tǒng)要求 | |
電氣 | 100-120 或 200-240VAC， 50/60Hz |
功率 | 550VA（**） |
氬氣 | *小純度99.995% 調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID連接軟管 |
暫無數(shù)據(jù)！
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