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**、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

美國(guó)NANOVEA公司的T100型摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)是一款多功能的摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)設(shè)備，可在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式，同時(shí)具有原位磨損率測(cè)量模塊，高溫模塊，低溫模塊，濕度模塊，膜厚測(cè)量模塊，氣氛模塊，潤(rùn)滑模塊，真空模塊，電化學(xué)腐蝕摩擦模塊，光學(xué)顯微鏡，聲發(fā)射模塊等多種模塊可供選擇，是科研客戶及工業(yè)客戶的理想選擇。該儀器除了能得到摩擦系數(shù)及摩擦力外，還可自動(dòng)得到磨損率，磨損深度，磨損面積體積，粗糙度及二維表面形貌，同時(shí)能計(jì)算靜摩擦系數(shù)與Stribeck曲線。

1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能，真正意義上的**摩擦磨損測(cè)試；

2、符合ASTM3702，ASTM G99與ASTM G133等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)；

3、用于高精確進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線；

4、有旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式；

5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可精確控制馬達(dá)控制速度與位置；　

6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線；

7、**載荷：100N；

8、轉(zhuǎn)度：0.01-5000rpm，15000rpm可選；　

9、密封式裝置，可以控制環(huán)境，如：氣體、濕度、潤(rùn)滑等；

10、高溫模式選件，**可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損；

11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試

12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率，磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)（Ra，Rp，Rv，Rz，Rc，Rt，Rq，Rsk，Rku，）等表面參數(shù)

13、原位電化學(xué)工作站選件，搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。

14、真空模塊選件，可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。

15、低溫模塊選件，可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試

第二、產(chǎn)品應(yīng)用：

第三、技術(shù)參數(shù):

主機(jī)參數(shù)：

表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù)：

NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇：

EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：

1) Z方向測(cè)量范圍：100μm

2) Z方向測(cè)量分辨率：20nm

3) Z方向測(cè)量精度：50nm

4）橫向光學(xué)分辨率：3μm

5）光斑直徑：6μm

6)工作距離：1mm

EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：

1) Z方向測(cè)量范圍：1.5mm

2) Z方向測(cè)量分辨率：200nm

3) Z方向測(cè)量精度：300nm

4）橫向光學(xué)分辨率：3.5μm

5）光斑直徑：7μm

6)工作距離：2.3mm