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            拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)
            拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)

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            德國(guó)

            樣本

            暫無(wú)
            先鋒科技(香港)股份有限公司

            會(huì)員

            |

            第2年

            |

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            alpha300 RA –在一個(gè)系統(tǒng)里面集成化學(xué)成分分析和納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)成像

            alpha300 RA 是市場(chǎng)上**高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng),可以在標(biāo)準(zhǔn)的Alpha 300R共聚焦拉曼系統(tǒng)上通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)模塊升級(jí)即可完成拉曼原子力系統(tǒng)聯(lián)用,獲得原位的AFMRaman圖像的疊加。alpha300 RA 獨(dú)特的設(shè)計(jì)理念使聯(lián)用系統(tǒng)既保留300R強(qiáng)大的化學(xué)組分分析能力,同時(shí)加入微納級(jí)別的表面形貌等特性的分析能力,使研究者能對(duì)樣品進(jìn)行深度完善的分析和理解。

            alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補(bǔ)的技術(shù)得以在一套系統(tǒng)里面實(shí)現(xiàn),兩種技術(shù)的性能完全不受聯(lián)用的影響,而且使用同一個(gè)操作軟件使得操作和分析變得簡(jiǎn)單應(yīng)用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡,只需要簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤,成像軟件即可原位完成兩種技術(shù)的圖像對(duì)比,疊加和分析

            此外alpha300 RA可進(jìn)一步升級(jí)來(lái)配合TERS (高分辨拉曼)測(cè)量

            拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)主要特點(diǎn)

            l 所有alpha300 R (拉曼) alpha300 A (原子力) 性能集成到一個(gè)顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)

            l 優(yōu)異的原位化學(xué)組分分析(拉曼)和微納級(jí)別表面特征分析(原子力)的結(jié)合

            l 原子力和拉曼同時(shí)進(jìn)行的**選擇

            l 嚴(yán)格原位,完全不需要在測(cè)量過(guò)程中移動(dòng)樣品

            l 只需要轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤即可在兩種測(cè)量技術(shù)之間簡(jiǎn)單切換

            拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)應(yīng)用實(shí)例

            多組分高分子混合物包含了1:1:1比例的聚苯乙烯(PS),充油丁苯橡膠SRB和丙烯酸乙基己酯EHA的原位拉曼及原子力圖像對(duì)標(biāo)

            *左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB,藍(lán)色代表EHA.

            第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),相位,粘附力和粘度

            金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應(yīng)力分析,原位拉曼原子力圖像

            左圖10x10um原子力表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和深度輪廓圖,右圖壓痕周邊的應(yīng)力拉曼圖像,紫色為未受應(yīng)力影響,黃色為壓力應(yīng)變,灰色為張力應(yīng)變

            拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)性能

            通用拉曼操作模式

            l 拉曼光譜成像連續(xù)掃描的拉曼高光譜全譜成像,每個(gè)樣品點(diǎn)都能獲得完整的拉曼光譜

            l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式

            l 快速和慢速時(shí)間序列

            l 單點(diǎn)及Z方向深度掃描

            l 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀,專為弱光應(yīng)用的拉曼光譜設(shè)計(jì)

            l 共聚焦熒光顯微鏡功能

            l 明場(chǎng)顯微鏡功能

            通用原子力顯微鏡操作模式

            l 接觸模式

            l AC 模式(輕敲模式)

            l 數(shù)字脈沖力模式 (DPFM)

            l 抬高模式

            l 磁力顯微鏡模式 (MFM)

            l 靜電力顯微鏡模式 (EFM)

            l 相位成像模式

            l 力曲線分析

            l 微納操控及微納印刷

            l 橫向力模式 (LFM)

            l 化學(xué)力模式 (CFM)

            l 電流探測(cè)模式

            l 其他可選

            基本顯微鏡指標(biāo)

            l 研究級(jí)別的光學(xué)顯微鏡,6孔物鏡轉(zhuǎn)盤

            l 明場(chǎng)CCD相機(jī),代替目鏡觀察樣品

            l LED明場(chǎng)科勒照明

            l 電動(dòng)XYZ樣品臺(tái),25x25x20mm平移范圍

            l 主動(dòng)隔震平臺(tái)

            各類拉曼升級(jí)選項(xiàng)(如true surface等)

            l 多種激光可選擇

            l 多種光譜儀可選擇

            l 自動(dòng)共聚焦拉曼成像

            l 自動(dòng)多區(qū)域多點(diǎn)測(cè)量

            l 可升級(jí)超快拉曼圖像模式(需配置EMCCDPiezo樣品臺(tái),可獲得每秒1300張光譜的速度)

            l 可升級(jí)落射熒光照明

            l 自動(dòng)聚焦功能

            l 顯微鏡觀察法可選,如暗場(chǎng),像差,偏光,微分干涉等

            超高通光量UHTS光譜儀

            l 各類透射式波長(zhǎng)優(yōu)化譜儀可選 (UV, VIS or NIR),均為弱光拉曼光譜設(shè)計(jì)

            l 光纖耦合,70%超高光通量

            l 優(yōu)異的成像質(zhì)量,光譜峰形對(duì)稱無(wú)像差

            控制電腦

            WITec控制和數(shù)據(jù)采集,處理軟件

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            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

            10分
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