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C11665-01 微米膜厚測量儀
特性
無參照物工作
尺寸緊湊，節(jié)省空間
高速、高準(zhǔn)確度
不整平薄膜精確測量
分析光學(xué)常數(shù)（n，k）
可外部控制
參數(shù)
| 型號(hào) | C11665-01 |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 0.5 μm to 700 μm*1 |
| 可測膜厚范圍（硅） | 0.5 μm to 300 μm*2 |
| 測量可重復(fù)性（硅） | 0.1 nm*3 *4 |
| 測量準(zhǔn)確度（硅） | ±1 %*4 *5 |
| 光源 | LED |
| 測量波長 | 940 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距離 | 5 mm*4 |
| 可測層數(shù) | **10層 |
| 分析 | FFT 分析，擬合分析，光學(xué)常數(shù)分析 |
| 測量時(shí)間 | 19 ms/點(diǎn)*6 |
| 光纖接口形狀 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C / Ethernet |
| 電源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 85W |
*1：SiO2薄膜測量特性
*2：Si薄膜測量特性
*3：測量6 μm厚硅薄膜時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)偏差
*4：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率
*5：在標(biāo)準(zhǔn)量具的測量保證范圍內(nèi)
*6：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間
暫無數(shù)據(jù)！
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