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        電化學(xué)石英晶體微天平
        電化學(xué)石英晶體微天平

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        北京

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        暫無
        環(huán)球恒達(dá)--界面化學(xué)儀器部

        會員

        |

        第2年

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        CHI400C系列時間分辨電化學(xué)石英晶體微天平(EQCM)是CH Instruments與武漢大學(xué)合作的產(chǎn)品(武漢大學(xué)**)。石英晶體微天平(QCM)可進(jìn)行極靈敏的質(zhì)量測量。在適當(dāng)?shù)臈l件下,石英晶體上沉積的質(zhì)量變化和振動頻率移動之間關(guān)系呈簡單的線性關(guān)系(Sauerbrey公式):

        Df = -2fo2 Dm / [A · sqrt(mr)]

        式中是fo晶體的基本諧振頻率,A是鍍在晶體上金盤的面積,r是晶體的密度(=2.684g/cm3),m是晶體切變系數(shù)(= 2.947´1011 g/cm·s2)。對于我們的晶體(fo = 7.995MHz, A = 0.196 cm2),每赫茲的頻率改變相當(dāng)于1.34 ng。QCM和EQCM被廣泛應(yīng)用于金屬沉積,高分子膜中離子傳遞,生物傳感器,以及吸附解吸動力學(xué)的研究等等。

        CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平含石英晶體振蕩器,頻率計數(shù)器,快速數(shù)字信號發(fā)生器,高分辨高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),電位電流信號濾波器,信號增益,iR降補償電路,以及恒電位儀/恒電流儀(440C)。電位范圍為±10V,電流范圍為±250mA。電流測量下限低于50pA。石英晶體微天平和恒電位儀/恒電流儀集成使得EQCM測量變得十分簡單方便。CHI400C系列采用時間分辨的方式測量頻率的改變。傳統(tǒng)的方法是采用頻率直接計數(shù)的方法,要得到1Hz的QCM分辨率,需要1秒的采樣時間。要得到0.1Hz的QCM分辨率,需要10秒的采樣時間。我們是將QCM的頻率和一標(biāo)準(zhǔn)頻率的差值作周期測量,從而大大縮短了采樣時間,提高了時間分辨。我們可在毫秒級的時間里得到1Hz或0.1Hz或更好的頻率分辨。當(dāng)和循環(huán)伏安法結(jié)合時,可允許在0.5V/s的掃描速度下獲得QCM的信號。這對需要較快速的測量(例如動力學(xué)測量)尤為重要。允許與QCM結(jié)合的電化學(xué)實驗技術(shù)包括CV,LSV,CA,i-t,CP。

        400C系列在測量QCM頻率變化的同時,還能測量晶體諧振網(wǎng)絡(luò)的電阻變化。

        400C系列也是相當(dāng)快速的儀器。信號發(fā)生器的更新速率為10MHz,數(shù)據(jù)采集速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時,電位增量僅0.1mV。又如交流伏安法的頻率可達(dá)10KHz。儀器可工作于二,三,或四電極的方式。四電極對于大電流或低阻抗電解池(例如電池)十分重要,可消除由于電纜和接觸電阻引起的測量誤差。由于儀器集成了多種常用的電化學(xué)測量技術(shù),使得儀器可用作通用電化學(xué)測量,也可單獨用作石英晶體微天平的測量(不同時進(jìn)行電化學(xué)測量)。

        CHI400C系列EQCM還包括一個特殊設(shè)計的電解池,如圖1(a)所示。電解池由三塊圓形的聚四氟乙烯組成。直徑為35mm,總高度為37mm。*上面的是蓋子,用于安裝參比電極和對極。中間的是用于放溶液的池體。石英晶體被固定于中間和底下的部件之間,通過橡膠圈密封,并用螺絲固定。石英晶體的直徑為13.7mm,晶體兩面的中間鍍有5.1mm直徑的金盤電極(其它電極材料需特殊定做)。新晶體的諧振頻率是7.995 MHz。

        硬件參數(shù)指標(biāo):

        恒電位儀

        恒電流儀 (Model440C)

        電位范圍: -10to10V

        電位上升時間: <2微秒

        槽壓: ±12V

        三電極或四電極設(shè)置

        電流范圍: 250mA

        參比電極輸入阻抗: 1´1012歐姆

        靈敏度: 1´10-12-0.1A/V共12檔量程

        輸入偏置電流: <50pA

        電流測量分辨率: <1pA

        CV的*小電位增量: 0.1mV

        電位更新速率: 10MHz

        數(shù)據(jù)采集: 16位分辨@1MHz

        自動及手動iR降補償

        CV和LSV掃描速度: 0.000001-5000V/s

        電位掃描時電位增量: 0.1mV@1000V/s

        CA和CC脈沖寬度: 0.0001-1000sec

        CA和CC階躍次數(shù): 320

        DPV和NPV脈沖寬度: 0.0001-10sec

        SWV頻率: 0.1-100kHz

        ACV頻率: 0.1-10kHz

        SHACV頻率: 0.1-5kHz

        自動電位和電流零位調(diào)整

        電流測量低通濾波器,自動或手動設(shè)置,覆蓋八個數(shù)量級的頻率范圍

        旋轉(zhuǎn)電極控制輸出: 0-10V(430C以上型號)

        電解池控制輸出: 通氮,攪拌,敲擊

        **數(shù)據(jù)長度: 256K-1,384K點可選

        儀器尺寸: 37cm (寬) x 23cm (深) x 12cm (高)

        儀器重量: 3.3kg

        CHI400C系列儀器不同型號的比較:

        功能400C410C420C430C440C
        循環(huán)伏安法(CV)lllll
        線性掃描伏安法(LSV)#lllll
        階梯波伏安法(SCV)#ll
        Tafel圖(TAFEL)ll
        計時電流法(CA)llll
        計時電量法(CC)llll
        差分脈沖伏安法(DPV)#llll
        常規(guī)脈沖伏安法(NPV)#llll
        差分常規(guī)脈沖伏安法(DNPV)#l
        方波伏安法(SWV)#lll
        交流(含相敏)伏安法(ACV)#ll
        二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV)#ll
        電流-時間曲線(i-t)ll
        差分脈沖電流檢測(DPA)l
        雙差分脈沖電流檢測(DDPA)l
        三脈沖電流檢測(TPA)l
        控制電位電解庫侖法(BE)llll
        流體力學(xué)調(diào)制伏安法(HMV)l
        掃描-階躍混合方法(SSF)l
        多電位階躍方法(STEP)l
        計時電位法(CP)l
        電流掃描計時電位法(CPCR)l
        多電流階躍(ISTEP)l
        電位溶出分析(PSA)l
        開路電壓-時間曲線(OCPT)lllll
        恒電流儀l
        RDE控制(0-10V輸出)ll
        任意反應(yīng)機理CV模擬器ll
        預(yù)設(shè)反應(yīng)機理CV模擬器lll

        注: #:包括相應(yīng)的極譜法和溶出伏安法.用于極譜法時需要特殊的靜汞電極或敲擊器.

        *:價格不包括計算機.儀器的保修期為一年.

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