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        EMS150 T離子濺射鍍膜儀
        EMS150 T離子濺射鍍膜儀

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        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        英國(guó)

        樣本

        暫無(wú)
        海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

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        EMS150 T離子濺射鍍膜儀的機(jī)殼是整體成型的,結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用,配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵,自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了濺射期間**的真空水平,真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能,可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度,從而保證高真空的性能。

        EMS150 T離子濺射鍍膜儀系列全自動(dòng)高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類(lèi)似傻瓜相機(jī)的簡(jiǎn)單操作、**的鍍膜質(zhì)量和對(duì)熟手/新手都很理想的用戶界面,讓用戶真正領(lǐng)略****的鍍膜品質(zhì)!

        EMS150 T離子濺射鍍膜儀根據(jù)不同的應(yīng)用方向,EMS150T細(xì)分為三個(gè)型號(hào):

        EMS150TS高分辨率濺射鍍膜儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater,可濺射易氧化和不易氧化金屬,可選各種濺射靶材,包括場(chǎng)發(fā)射電鏡常用的銥和鉻。

        EMS150TE高真空鍍碳儀,可制作高穩(wěn)定的碳膜和表面覆形膜,是TEM應(yīng)用*理想的選擇。

        EMS150TES:集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式,鍍膜頭可在幾秒內(nèi)快速更換,只能邏輯系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別所裝的鍍膜頭類(lèi)型,并顯示相應(yīng)的操作模式。

        注:上述各型號(hào)都可配備如下可選的附件:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測(cè)量等

        觸摸屏控制:

        EMS150 T離子濺射鍍膜儀操作十分簡(jiǎn)單,直觀的觸摸屏,即使*不熟練的操作者也可以自由操作,同時(shí)可方便的鍵入和存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。為了方便使用,設(shè)備中已經(jīng)預(yù)存一些了典型的濺射和蒸發(fā)鍍膜參數(shù)資料。

        鍍膜插入頭選項(xiàng):

        具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭

        濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料,直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材

        可用另外的濺射插入頭來(lái)快速更換鍍膜材料(僅為T(mén)S和TES型號(hào))

        適用于3.05mm碳棒蒸發(fā)插入頭

        適用于6.15mm碳棒蒸發(fā)頭,建議使用3.05mm直徑的碳棒,它們更容易控制、更經(jīng)濟(jì)

        碳絲蒸發(fā)插入頭

        金屬蒸發(fā)和光闌潔凈頭,包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)(僅為T(mén)E和TES型號(hào))

        樣品臺(tái)選項(xiàng)

        EMS150T具有各種易更換的樣品臺(tái),drop-in落入式設(shè)計(jì)具高度可調(diào)(除旋轉(zhuǎn)行星臺(tái))。

        標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺(tái), 直徑為50mm

        可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺(tái)(可選)

        可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺(tái)(可選)

        可用于4〞晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺(tái)(可選)

        顯微鏡載玻片樣品臺(tái)(可選)

        其它選項(xiàng)

        用于高樣品的加高腔室

        膜厚監(jiān)測(cè)器(FTM)

        用于測(cè)量低和高真空的全范圍真空計(jì)

        特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):

        金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì),節(jié)約空間

        精細(xì)顆粒濺射:高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用

        渦輪分子泵高真空系統(tǒng):允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用,也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái)

        全自動(dòng)觸摸屏控制:快速數(shù)據(jù)輸入,簡(jiǎn)單操作

        可儲(chǔ)存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案:對(duì)多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想

        與鍍膜過(guò)程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動(dòng)真空控制

        精細(xì)的厚度控制:使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)

        “智能”式系統(tǒng)識(shí)別:自動(dòng)感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類(lèi)型

        高真空碳蒸鍍:對(duì)SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想

        蒸發(fā)電流波形控制

        Drop-in落入式快換樣品臺(tái)(標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái))

        真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態(tài),改善后續(xù)真空效果,或在真空條件下保存樣品

        鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時(shí)間可長(zhǎng)達(dá)60分鐘(材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用)

        人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼:易維護(hù)和易拆裝

        帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口:簡(jiǎn)單的程序更新

        設(shè)有功率因素補(bǔ)償,有效利用電能,降低運(yùn)行成本

        符合當(dāng)前電器法規(guī)(CE認(rèn)證)

        EMS150 T離子濺射鍍膜儀儀器參數(shù):

        儀器尺寸

        585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm)

        重量

        33.4KG

        工作腔室

        150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩

        觸摸屏用戶界面

        帶有觸摸按鈕的全圖像界面,包含多達(dá)十個(gè)鍍膜程序,可提醒何時(shí)需要維護(hù)

        工作腔室

        150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩

        樣品臺(tái)

        轉(zhuǎn)速為8-20rpm的旋轉(zhuǎn)臺(tái)

        真空系統(tǒng)

        渦輪子分子泵:帶有內(nèi)部空氣卻的渦輪分子泵,抽速為70L/s

        旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:抽速為50L/m的兩級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵,帶有油污過(guò)濾器

        真空測(cè)量

        皮拉尼真空計(jì)作為標(biāo)配

        極限真空度

        10-5mbar兩級(jí)

        電源需求

        90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵電壓240V)

        氣體

        濺射工作氣體氬氣,99.999%(TS和TES版本);氮?dú)?,放氣破真空氣體(可選)

        金屬蒸發(fā)和光闌清潔頭

        用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)??膳鋫湟粋€(gè)標(biāo)準(zhǔn)鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌

        碳蒸發(fā)

        穩(wěn)定的無(wú)紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā),確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳

        電流脈沖

        1-90安培

        濺射

        0-150mA??深A(yù)設(shè)膜厚(需FTM選項(xiàng))或使用內(nèi)置定時(shí)器

        濺射工作真空范圍

        5*10-3到5*10-1mbar

        濺射靶材和碳耗材供應(yīng)

        EMS150TS和EMS150TES標(biāo)配鉻靶,但可選用的其它靶材范圍很寬,包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材,如:Au金靶,Au/pd金鈀,Pt鉑靶,和Iridium銥靶。對(duì)非SEM應(yīng)用,可選用的靶材包括:AI鋁,Ta鉭,ITO氧化銦錫,F(xiàn)e鐵,W鎢,Ti鈦,等等:碳制品包括高純度碳絲。

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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