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        Plasma Etch PE-100等離子表面處理儀
        Plasma Etch PE-100等離子表面處理儀

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        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        美國(guó)

        樣本

        暫無(wú)
        溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

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        美國(guó)PE公司1980年就開始致力于電子行業(yè)使用的等離子設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù), 至今已成為全美***的等離子系統(tǒng)解決方案專業(yè)供應(yīng)商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列,大氣壓系列, PCB專用系列, Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過(guò)了30年, 廣泛應(yīng)用于全球各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實(shí)驗(yàn)室, 全球超過(guò)8000套用戶。知名客戶如美國(guó)宇航局NASA, 波音Boeing, 霍尼韋爾Honeywell, 摩托羅拉Moto, 德國(guó)拜耳Bayer, 軍用飛機(jī)領(lǐng)軍企業(yè)洛克希德馬丁Lockheed-Martin, 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學(xué), 麻省理工, 萊斯大學(xué), 橡樹嶺國(guó)家實(shí)驗(yàn)室等等。

        美國(guó)PE擁有等離子技術(shù)領(lǐng)域里*頂尖的技術(shù), 憑借著多年研發(fā)和突破性創(chuàng)新, 先已擁有了多項(xiàng)技術(shù)**, 如**的溫控技術(shù)和**的靜電屏蔽技術(shù), 使其等離子設(shè)備能提供****的處理效率, 均勻性和可靠性, 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設(shè)備的三倍以上。

        PE-25,PE-50,PE-75,PE-100,PE-200臺(tái)式等離子表面處理設(shè)備是專門針對(duì)于大學(xué),研究機(jī)構(gòu)和工廠研發(fā)設(shè)計(jì)的小批量樣品處理裝置, 性價(jià)比高,性能優(yōu)越,操作方便。

        PE系列優(yōu)勢(shì)如下:

        1. 真空腔室均采用航空特種鋁,研究表明采用這種特級(jí)鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個(gè)等離子體以保證整個(gè)處理過(guò)程的**均勻性。性能遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)石英,玻璃或不銹鋼腔室

        2. 腔體一體成型,無(wú)焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。

        3. 電容平行板設(shè)計(jì), **效*均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm,可以輕松將大尺寸不規(guī)則實(shí)驗(yàn)樣品放入腔體內(nèi)處理。

        4. 操作簡(jiǎn)便, 面板的操作部分,非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設(shè)計(jì)使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時(shí)間內(nèi)就可以熟練操作,只需要幾分鐘就可上手掌握。

        5. 安全保障:在小型設(shè)備中,**引入一鍵急停保護(hù)按鈕,當(dāng)參數(shù)設(shè)置有誤而設(shè)備已經(jīng)啟動(dòng)的時(shí)候,可以快速終止實(shí)驗(yàn),以*小程度降低因操作失誤而造成對(duì)樣品的損害。

        6. **的粉體收集裝置,可以處理500~1000ML粉體

        技術(shù)參數(shù)如下:

        應(yīng)用領(lǐng)域如下:

        目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應(yīng)離子刻蝕,在真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

        RIE系統(tǒng)刻蝕效果取決于氣體的流量,壓力和功率設(shè)置等方面。

        我們?cè)O(shè)計(jì)和制造的反應(yīng)性離子蝕刻系統(tǒng),可以滿足客戶的任何需要,且可以根據(jù)客戶的要求定制適合的等離子系統(tǒng)。我們的等離子處理系統(tǒng),以提供快速,高品質(zhì)的蝕刻,低損傷,提供****的均勻性而著稱。

        我們的等離子蝕刻機(jī)是理想的干蝕刻,目前正在采用的蝕刻:

        半導(dǎo)體/集成電路

        氮化鎵(甘)

        氮化鋁鎵/氮化鎵(AlGaN/GaN)

        砷化鎵/砷化鋁鎵(一般反避稅條款/ algaar)

        砷化鎵(GaAs)

        磷化銦、銦鋁砷/銦鎵砷化物(InP InGaAs/InAlAs)

        硅(硅)

        硅鍺(SiGe)

        氮化硅陶瓷(Si3N4)

        硅的溴化氫(sihbr)

        硒化鋅(ZnSe)

        金屬

        鋁(鋁)

        鉻(鉻)

        鉑(鉑)

        鉬(鉬)

        鈮(鈮)

        鉭(鉭)

        鈦(Ti)

        鎢(鎢)

        電介質(zhì)

        銦錫氧化物(ITO)

        鋯鈦酸鉛(PZT)

        碳化硅(碳化硅)

        塑料/聚合物

        聚四氟乙烯(PTFE)

        聚甲醛(POM)

        聚苯并咪唑(PBI)

        聚醚醚酮(PEEK)

        聚酰亞胺(聚酰亞胺)

        聚酰胺(尼龍)

        全氟烷氧基烷(PFA)

        聚全氟乙丙烯(FEP)

        聚烯烴

        聚酯

        失效分析

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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