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產(chǎn)品介紹

TYPICAL APPLICATIONS

Transmission scanning electron microscopy

Scanning electron microscopy

Semiconductor analysis， milling and repair

Ion beam etching

Focused ion-beam lithography

　　威思曼高壓電源的HEM系列是綜合的多輸出高電壓電源，專用于聚焦離子束。典型的應(yīng)用包括透射和掃描電子顯微鏡；半導(dǎo)體分析，銑削和修復(fù)光盤驅(qū)動(dòng)器頭，離子；束刻蝕和聚焦離子束光刻。模塊化設(shè)計(jì)方法，允許個(gè)別組件可以很容易地配置在一個(gè)共同的機(jī)架大底盤安裝裝配。接口，邏輯和控制電路是采用表面貼裝技術(shù)，盡量減少成本和尺寸。集成加速電源、燈絲電源，吸取極電源，抑制極電源和鏡頭電源。超低輸出紋波，優(yōu)秀的調(diào)整率、穩(wěn)定性、溫漂、精度。**高電壓懸浮、數(shù)字化控制技術(shù)。HEM系列高精度模塊價(jià)格有競(jìng)爭(zhēng)力，是OEM應(yīng)用的理想選擇。

技術(shù)參數(shù)：

輸入:85 to 265V AC， 47到63Hz

加速極電源

輸出電壓：0到-35KV

輸出電流：30μA

紋波：200 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ

線路調(diào)整率：輸入變化+ / -10％為100mV

負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定度：預(yù)熱2小時(shí)候后，1.5V/10小時(shí)

溫度系數(shù)：25 PPM / °C

燈絲電源

輸出電壓：0至5 VDC

輸出電流：0到5 A

紋波：10mA P-P，從0.1 Hz到1MHZ

線路調(diào)整率：+ / -10％變化為5mA

負(fù)載調(diào)整率：± 0.1％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后5mA/10分鐘

溫度系數(shù)：200 PPM / °C

抑制極電源

輸出電壓：-2kv - 2kv

輸出電流：30uA

紋波：150 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ

線路調(diào)整率：輸入+ / -10％變化為100mV

負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，500mV/10小時(shí)

溫度系數(shù)：25 PPM / °C

吸取極電源

輸出電壓：0到-15KV

輸出電流：400μA

紋波：100 mV P-P，從0.1 Hz到1 MHZ，30μA以下

線路調(diào)整率：輸入+ / -10％的變化為100mV

負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，500mV/10小時(shí)

溫度系數(shù)：25 PPM / °C

鏡頭1電源

輸出電壓：0至-40KV

輸出電流：30μA

紋波：150 mV P-P從0.1 Hz到1MHZ

線路調(diào)整率：輸入+ / -10％的變化為100mV

負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，500 mV/10小時(shí)

溫度系數(shù)：25 PPM / °C

鏡頭2電源

輸出電壓：0到25KV

輸出電流：30μA

紋波：150 mV P-P從0.1 Hz到1MHZ

線路調(diào)整率：輸入+ / -10％的變化為100mV

負(fù)載調(diào)整率：± 0.005％，**電壓，滿負(fù)荷變化

穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，1.0 V/10小時(shí)

溫度系數(shù)：25 PPM / °C

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威思曼高壓電源有限公司是世界具有領(lǐng)導(dǎo)地位直流高壓電源和一體化X射線源供應(yīng)商，同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品和定制設(shè)計(jì)服務(wù)。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于醫(yī)療，工業(yè)，半導(dǎo)體，安全，分析儀器，實(shí)驗(yàn)室以及海底光纖等設(shè)備。集設(shè)計(jì)，生產(chǎn)和服務(wù)為一體的工廠分布于美國(guó)，英國(guó)，及中國(guó)等地，并且我們銷售中心遍布于歐洲，北美洲以及亞洲，我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)!

電子顯微鏡科技名詞定義

中文名稱：電子顯微鏡 英文名稱：electron microscope 其他名稱：電鏡 定義1：按電子光學(xué)原理用電子束使樣品成像的顯微鏡。 應(yīng)用學(xué)科：機(jī)械工程（一級(jí)學(xué)科）；光學(xué)儀器（二級(jí)學(xué)科）；電子光學(xué)儀器-電子顯微鏡（三級(jí)學(xué)科） 定義2：一類用電子束為光源，顯示標(biāo)本超微結(jié)構(gòu)的顯微鏡。分為透射電子顯微鏡和掃描電子顯微鏡等。 應(yīng)用學(xué)科：細(xì)胞生物學(xué)（一級(jí)學(xué)科）；細(xì)胞生物學(xué)技術(shù)（二級(jí)學(xué)科） 以上內(nèi)容由全國(guó)科學(xué)技術(shù)名詞審定委員會(huì)審定公布 。

掃描式電鏡電子顯微鏡常用的有透射電鏡（transmissionelectronmicroscope，TEM）和掃描電子顯微鏡（scanningelectronmicroscope，SEM）。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。

電子顯微鏡

電子顯微鏡，簡(jiǎn)稱電鏡，是根據(jù)電子光學(xué)原理，用電子束和電子透鏡代替光束和光學(xué)透鏡，使物質(zhì)的細(xì)微結(jié)構(gòu)在非常高的放大倍數(shù)下成像的儀器。電子顯微鏡由鏡筒、真空裝置和電源柜三部分組成。鏡筒主要有電子源、電子透鏡、樣品架、熒光屏和探測(cè)器等部件，這些部件通常是自上而下地裝配成一個(gè)柱體。電子透鏡用來(lái)聚焦電子，是電子顯微鏡鏡筒中*重要的部件。一般使用的是磁透鏡，有時(shí)也有使用靜電透鏡的。它用一個(gè)對(duì)稱于鏡筒軸線的空間電場(chǎng)或磁場(chǎng)使電子軌跡向軸線彎曲形成聚焦，其作用與光學(xué)顯微鏡中的光學(xué)透鏡（凸透鏡）使光束聚焦的作用是一樣的，所以稱為電子透鏡。光學(xué)透鏡的焦點(diǎn)是固定的，而電子透鏡的焦點(diǎn)可以被調(diào)節(jié)，因此電子顯微鏡不象光學(xué)顯微鏡那樣有可以移動(dòng)的透鏡系統(tǒng)?，F(xiàn)代電子顯微鏡大多采用電磁透鏡，由很穩(wěn)定的直流勵(lì)磁電流通過(guò)帶極靴的線圈產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)使電子聚焦。 電子顯微鏡電子源是一個(gè)釋放自由電子的陰極，柵極，一個(gè)環(huán)狀加速電子的陽(yáng)極構(gòu)成的。陰極和陽(yáng)極之間的電壓差必須非常高，一般在數(shù)千伏到3百萬(wàn)伏之間。它能發(fā)射并形成速度均勻的電子束，所以加速電壓的穩(wěn)定度要求不低于萬(wàn)分之一。樣品架樣品可以穩(wěn)定地放在樣品架上。此外往往還有可以用來(lái)改變樣品（如移動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)、加熱、降溫、拉長(zhǎng)等）的裝置。探測(cè)器用來(lái)收集電子的信號(hào)或次級(jí)信號(hào)。真空裝置用以保障顯微鏡內(nèi)的真空狀態(tài)，這樣電子在其路徑上不會(huì)被吸收或偏向，由機(jī)械真空泵、擴(kuò)散泵和真空閥門等構(gòu)成，并通過(guò)抽氣管道與鏡筒相聯(lián)接。電源柜由高壓發(fā)生器、勵(lì)磁電流穩(wěn)流器和各種調(diào)節(jié)控制單元組成。

概述

電子顯微鏡按結(jié)構(gòu)和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發(fā)射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細(xì)微物質(zhì)結(jié)構(gòu)；掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌，也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結(jié)合，構(gòu)成電子微探針，用于物質(zhì)成分分析；發(fā)射式電子顯微鏡用于自發(fā)射電子表面的研究。

透射電子顯微鏡（TEMTransmission Electron Microscopy，亦稱投射式電子顯微鏡）因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學(xué)顯微鏡相仿，可以直接獲得一個(gè)樣本的投影。通過(guò)改變物鏡的透鏡系統(tǒng)人們可以直接放大物鏡的焦點(diǎn)的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個(gè)像可以分析樣本的晶體結(jié)構(gòu)。在這種電子顯微鏡中，圖像細(xì)節(jié)的對(duì)比度是由樣品的原子對(duì)電子束的散射形成的。由于電子需要穿過(guò)樣本，因此樣本必須非常薄。組成樣本的原子的原子量、加速電子的電壓和所希望獲得的分辨率決定樣本的厚度。樣本的厚度可以從數(shù)納米到數(shù)微米不等。原子量越高、電壓越低，樣本就必須越薄。樣品較薄或密度較低的部分，電子束散射較少，這樣就有較多的電子通過(guò)物鏡光欄，參與成像，在圖像中顯得較亮。反之，樣品中較厚或較密的部分，在圖像中則顯得較暗。如果樣品太厚或過(guò)密，則像的對(duì)比度就會(huì)惡化，甚至?xí)蛭针娮邮哪芰慷粨p傷或破壞。透射式電子顯微鏡鏡筒的頂部是電子槍，電子由鎢絲熱陰極發(fā)射出、通過(guò)**，第二兩個(gè)聚光鏡使電子束聚焦。電子束通過(guò)樣品后由物鏡成像于中間鏡上，再通過(guò)中間鏡和投影鏡逐級(jí)放大，成像于熒光屏或照相干版上。中間鏡主要通過(guò)對(duì)勵(lì)磁電流的調(diào)節(jié)，放大倍數(shù)可從幾十倍連續(xù)地變化到幾十萬(wàn)倍；改變中間鏡的焦距，即可在同一樣品的微小部位上得到電子顯微像和電子衍射圖像。為了能研究較厚的金屬切片樣品，法國(guó)杜洛斯電子光學(xué)實(shí)驗(yàn)室研制出加速電壓為3500千伏的超高壓電子顯微鏡。在能量過(guò)濾透過(guò)式電子顯微鏡（Energy Filtered Transmission Electron Microscopy，EFTEM）中人們測(cè)量電子通過(guò)樣本時(shí)的速度改變。由此可以推測(cè)出樣本的化學(xué)組成，比如化學(xué)元素在樣本內(nèi)的分布。

掃描電子顯微鏡（SEM Scanning electron microscope）的電子束不穿過(guò)樣品，僅以電子束盡量聚焦在樣本的一小塊地方，然后一行一行地掃描樣本。入射的電子導(dǎo)致樣本表面被激發(fā)出次級(jí)電子。顯微鏡觀察的是這些每個(gè)點(diǎn)散射出來(lái)的電子，放在樣品旁的閃爍晶體接收這些次級(jí)電子，通過(guò)放大后調(diào)制顯像管的電子束強(qiáng)度，從而改變顯像管熒光屏上的亮度。顯像管的偏轉(zhuǎn)線圈與樣品表面上的電子束保持同步掃描，這樣顯像管的熒光屏就顯示出樣品表面的形貌圖像，這與工業(yè)電視機(jī)的工作原理相類似。由于這樣的顯微鏡中電子不必透射樣本，因此其電子加速的電壓不必非常高。 　　掃描式電子顯微鏡的分辨率主要決定于樣品表面上電子束的直徑。放大倍數(shù)是顯像管上掃描幅度與樣品上掃描幅度之比，可從幾十倍連續(xù)地變化到幾十萬(wàn)倍。掃描式電子顯微鏡不需要很薄的樣品；圖像有很強(qiáng)的立體感；能利用電子束與物質(zhì)相互作用而產(chǎn)生的次級(jí)電子、吸收電子和X射線等信息分析物質(zhì)成分。掃描式電子顯微鏡的電子槍和聚光鏡與透射式電子顯微鏡的大致相同，但是為了使電子束更細(xì)，在聚光鏡下又增加了物鏡和消像散器，在物鏡內(nèi)部還裝有兩組互相垂直的掃描線圈。物鏡下面的樣品室內(nèi)裝有可以移動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)和傾斜的樣品臺(tái)。 　

場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（FESEM）是一種比較簡(jiǎn)單的掃描電子顯微鏡，它觀察樣本上因強(qiáng)電場(chǎng)導(dǎo)致的場(chǎng)發(fā)射所散發(fā)出來(lái)的電子。假如觀察的是透過(guò)樣本的掃描電子的話，那么這種顯微鏡被稱為掃描透射電子顯微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy，STEM）。

　　透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細(xì)微物質(zhì)結(jié)構(gòu)；掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌，也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結(jié)合，構(gòu)成電子微探針，用于物質(zhì)成分分析；發(fā)射式電子顯微鏡用于自發(fā)射電子表面的研究。

　　1926年漢斯·布什研制了**個(gè)磁力電子透鏡。1931年厄恩斯特·盧斯卡和馬克斯·克諾爾研制了**臺(tái)透視電子顯微鏡。展示這臺(tái)顯微鏡時(shí)使用的還不是透視的樣本，而是一個(gè)金屬格。1986年盧斯卡為此獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。1938年他在西門子公司研制了**臺(tái)商業(yè)電子顯微鏡。1934年鋨酸被提議用來(lái)加強(qiáng)圖像的對(duì)比度。1937年**臺(tái)掃描透射電子顯微鏡推出。 電子顯微鏡

一開始研制電子顯微鏡*主要的目的是顯示在光學(xué)顯微鏡中無(wú)法分辨的病原體如病毒等。1949年可投射的金屬薄片出現(xiàn)后材料學(xué)對(duì)電子顯微鏡的興趣大增。1960年代投射電子顯微鏡的加速電壓越來(lái)越高來(lái)透視越來(lái)越厚的物質(zhì)。這個(gè)時(shí)期電子顯微鏡達(dá)到了可以分辨原子的能力。1980年代人們能夠使用掃描電子顯微鏡觀察濕樣本。1990年代中電腦越來(lái)越多地用來(lái)分析電子顯微鏡的圖像，同時(shí)使用電腦也可以控制越來(lái)越復(fù)雜的透鏡系統(tǒng)，同時(shí)電子顯微鏡的操作越來(lái)越簡(jiǎn)單。

　　1．透射電鏡技術(shù):透射電鏡是以電子束透過(guò)樣品經(jīng)過(guò)聚焦與放大后所產(chǎn)生的物像，投射到熒光屏上或照相底片上進(jìn)行觀察。透射電鏡的分辨率為0.1～0.2nm，放大倍數(shù)為幾萬(wàn)～幾十萬(wàn)倍。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，必須制備更薄的超薄切片（通常為50～100nm）。其制備過(guò)程與石蠟切片相似，但要求極嚴(yán)格。要在機(jī)體死亡后的數(shù)分鐘釣取材，組織塊要小(1立方毫米以內(nèi)），常用戊二醛和餓酸進(jìn)行雙重固定樹脂包埋，用特制的超薄切片機(jī)（ultramicrotome）切成超薄切片，再經(jīng)醋酸鈾和檸檬酸鉛等進(jìn)行電子染色。電子束投射到樣品時(shí)，可隨組織構(gòu)成成分的密度不同而發(fā)生相應(yīng)的電子發(fā)射，如電子束投射到質(zhì)量大的結(jié)構(gòu)時(shí)，電子被散射的多，因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像，電子照片上則呈黑色，稱電子密度高（electrondense）。反之，則稱為電子密度低（electronlucent）。 　　

2.掃描電鏡技術(shù)　掃描電鏡是用極細(xì)的電子束在樣品表面掃描，將產(chǎn)生的二次電子用特制的探測(cè)器收集，形成電信號(hào)運(yùn)送到顯像管，在熒光屏上顯示物體。（細(xì)胞、組織）表面的立體構(gòu)像，可攝制成照片。掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定，經(jīng)脫水和臨界點(diǎn)干燥后，再於樣品表面噴鍍薄層金膜，以增加二波電子數(shù).掃描電鏡能觀察較大的組織表面結(jié)構(gòu)，由於它的景深長(zhǎng)，1mm左右的凹凸不平面能清所成像，故放樣品圖像富有立體感。

　　在使用透視電子顯微鏡觀察生物樣品前樣品必須被預(yù)先處理。隨不同研究要求的需要科學(xué)家使用不同的處理方法。固定：為了盡量保存樣本的原樣使用戊二醛來(lái)硬化樣本和使用鋨酸來(lái)染色脂肪。 　　冷固定：將樣本放在液態(tài)的乙烷中速凍，這樣水不會(huì)結(jié)晶，而形成非晶體的冰 電子顯微鏡下的病毒。這樣保存的樣品損壞比較小，但圖像的對(duì)比度非常低。脫干：使用乙醇和丙酮來(lái)取代水墊入：樣本被墊入后可以分割。分割：將樣本使用金剛石刃切成薄片。染色：重的原子如鉛或鈾比輕的原子散射電子的能力高，因此可被用來(lái)提高對(duì)比度。使用透視電子顯微鏡觀察金屬前樣本要被切成非常薄的薄片（約0.1毫米），然后使用電解擦亮繼續(xù)使得金屬變薄，*后在樣本中心往往形成一個(gè)洞，電子可以在這個(gè)洞附近穿過(guò)那里非常薄的金屬。無(wú)法使用電解擦亮的金屬或不導(dǎo)電或?qū)щ娦阅懿缓玫奈镔|(zhì)如硅等一般首先被用機(jī)械方式磨薄后使用離子打擊的方法繼續(xù)加工。為防止不導(dǎo)電的樣品在掃描電子顯微鏡中積累靜電它們的表面必須覆蓋一層導(dǎo)電層。在電子顯微鏡中樣本必須在真空中觀察，因此無(wú)法觀察活樣本。在處理樣本時(shí)可能會(huì)產(chǎn)生樣本本來(lái)沒有的結(jié)構(gòu)，這加劇了此后分析圖像的難度。由于投射電子顯微鏡只能觀察非常薄的樣本，而普通的光學(xué)顯微鏡有可能物質(zhì)表面的結(jié)構(gòu)與物質(zhì)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)不同。此外電子束可能通過(guò)碰撞和加熱破壞樣本?，F(xiàn)在的**技術(shù)可以在電子顯微鏡中觀察濕的樣本和不涂導(dǎo)電層的樣本（環(huán)境掃描電子顯微鏡，Environmental Scanning Electron Microscopes，ESEM）。假如事先對(duì)樣本的情況比較清晰的話則可以基本上進(jìn)行不破壞的觀察。此外電子顯微鏡購(gòu)買和維護(hù)的價(jià)格都比較高。

性能比較

電子顯微鏡觀察分辨能力是電子顯微鏡的重要指標(biāo)，電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點(diǎn)的*小間距來(lái)表示，它與透過(guò)樣品的電子束入射錐角和波長(zhǎng)有關(guān)?？梢姽獾牟ㄩL(zhǎng)約為300～700納米，而電子束的波長(zhǎng)與加速電壓有關(guān)。依據(jù)波粒二象性原理，高速的電子的波長(zhǎng)比可見光的波長(zhǎng)短，而顯微鏡的分辨率受其使用的波長(zhǎng)的限制，因此電子顯微鏡的分辨率（約0.2納米）遠(yuǎn)高于光學(xué)顯微鏡的分辨率（約200納米）。當(dāng)加速電壓為50～100千伏時(shí)，電子束波長(zhǎng)約為0.0053～0.0037納米。由于電子束的波長(zhǎng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于可見光的波長(zhǎng)，所以即使電子束的錐角僅為光學(xué)顯微鏡的1%，電子顯微鏡的分辨本領(lǐng)仍遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于光學(xué)顯微鏡。光學(xué)顯微鏡的**放大倍率約為2000倍，而現(xiàn)代電子顯微鏡**放大倍率超過(guò)300萬(wàn)倍，所以通過(guò)電子顯微鏡就能直接觀察到某些重金屬的原子和晶體中排列整齊的原子點(diǎn)陣。電子顯微鏡的分辨本領(lǐng)雖已遠(yuǎn)勝于光學(xué)顯微鏡，但電子顯微鏡因需在真空條件下工作，所以很難觀察活的生物，而且電子束的照射也會(huì)使生物樣品受到輻照損傷。其他的問(wèn)題，如電子槍亮度和電子透鏡質(zhì)量的提高等問(wèn)題也有待繼續(xù)研究。

　　圖像傳感器：130萬(wàn)像素，彩色CMOS，有效像素1280（H）*1024（V） 　　清晰度：650線以上 　　圖像刷新率：15幀/秒 　　信噪比：>60dB 　　視頻接口：標(biāo)準(zhǔn)VGA接口 　　VGA輸出支持：1024X768 60Hz（默認(rèn)），1024X768 75Hz 　　鏡頭接口：CS 　　控制功能：亮度，對(duì)比度，色飽和度，銳度，Cb偏移量， Cr偏移量，十字光標(biāo)疊加，垂直鏡像，水平鏡像，負(fù)片 　　電源：5V DC允許10%偏差 　　工作電流：400mA 　　功率：2W 　　體積：48*60*100（mm）總放大倍數(shù)：7-150倍 　　物鏡：0.7-4.5連續(xù)變倍 　　目鏡：0.5X 　　升降范圍：270mm 　　手輪調(diào)焦范圍：65mm 　　中心距離：140mm 　　立柱直徑：25mm 　　鏡頭接口直徑：50mm 　　支架總高度：355mm 　　底座尺寸：390X270X28 　　凈重：6KG 　　8寸工業(yè)液晶顯示器。 　　顯微鏡的放大倍數(shù)可以根據(jù)需要**可以600倍、觀察面積可以到達(dá)30mm以上、使用方便等特點(diǎn)。 　　選配物件：XY移動(dòng)平臺(tái)、LED環(huán)形光源、1X、0.3倍目鏡0.5倍、2倍物鏡、底座有多款可選、可以選配多種攝像頭。

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