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THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機(jī)

產(chǎn)品描述

NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實(shí)驗(yàn)用納米熱壓印機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)的簡(jiǎn)單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過(guò)CNI設(shè)備高效、低成本地實(shí)現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機(jī)構(gòu)均購(gòu)買了CNI的設(shè)備。NILT CNI熱壓設(shè)備，

產(chǎn)品特點(diǎn)

占地小、操作簡(jiǎn)便

可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制

可實(shí)現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無(wú)需昂貴的工藝設(shè)備。

應(yīng)用領(lǐng)域

在硅片上制作納米級(jí)光柵

壓印易碎的材料（例如III-V族材料）

微結(jié)構(gòu)加工

制作壓印印章

保護(hù)母版的適用壽命

熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形

THERMAL NIL 主要性能指標(biāo)：

集成控溫卡盤，可對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量、控制壓印程序可進(jìn)行編程（溫度、壓力、時(shí)間）可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板。可適用于Silicon， Quartz， Nickel and Polymer materials壓印程序可進(jìn)行編程適用所有熱壓印材料設(shè)備可用于復(fù)制壓印母板壓印溫度可達(dá)200 攝氏度壓力范圍：1‐10 bar壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗(yàn)收)將模板加熱和溫度測(cè)量集成與壓印載盤上載盤適用于易碎襯底快速升溫，快速降溫，擁有**技術(shù)的卡盤設(shè)計(jì)，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘提供COC 有機(jī)聚合物中間層軟膜（***的母板復(fù)制工藝），耗材及工藝培訓(xùn)提供壓印相關(guān)材料提供工藝培訓(xùn)和支持

壓印實(shí)例

方形結(jié)構(gòu)陣列500nm

Distributed feedback laser array (DFB）分布式反饋激光器，240nm光柵結(jié)構(gòu)

Demonstration of imprint on Indium Phosphide (InP)磷化銦Protrusion height突出高度：112 nm 納米

訂購(gòu)型號(hào)：

CNI-V2.1桌面式納米熱壓印機(jī)參數(shù)：熱零點(diǎn)高達(dá)240攝氏度，UV NIL@365nm，壓印壓力:0.3至11Bar，真空壓?。?/span>1mbar），印章和基板尺寸：高達(dá)200 mm