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創(chuàng)新型冷場(chǎng)發(fā)射電子槍具有超高分辨率和電子束穩(wěn)定性
這種新型的冷場(chǎng)發(fā)射電子槍采用日立**的“柔性閃爍”“Mild flashing”技術(shù)和全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)，在發(fā)射極尖端極大限度減少氣體分子附著。 發(fā)射極始終運(yùn)行于“潔凈”的狀態(tài)，發(fā)射電流和電子束穩(wěn)定性顯著提升。 即使在低加速電壓下，也可以得到高信噪比的SEM信號(hào)并進(jìn)行高分辨觀察。 這些增強(qiáng)性能開(kāi)辟了低電壓下元素微量分析的全新里程。
SU8200系統(tǒng)具備全新設(shè)計(jì)的頂端過(guò)濾器，可增強(qiáng)電子檢測(cè)特性。 通過(guò)選擇性地過(guò)濾非彈性散射電子和直接檢測(cè)特定能量的背散射電子，可實(shí)現(xiàn)良好的對(duì)比度。 這種選擇性的過(guò)濾，在提高低加速電壓下成分對(duì)比度方面尤為強(qiáng)大。樣品臺(tái)和樣品室的防震措施以及光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)化有助于提高分辨率：15 kV時(shí)0.8 nm，1 kV時(shí) 1.1 nm。
| SU8220 | SU8230 | SU8240 | ||
|---|---|---|---|---|
| 二次電子分辨率＊1 | 0.8 nm (Vacc 15 kV， WD=4 mm， 放大倍數(shù) 270 k×) 1.1 nm (著陸電壓 1 kV， WD=1.5 mm， 放大倍數(shù) 200 k×)＊2 | |||
| 著陸電壓 | 0.01～30kV | |||
| 放大倍數(shù) | 20-1，000，000×＊3 | |||
| 樣品臺(tái)控制 | 5軸馬達(dá)臺(tái) | 5軸馬達(dá)臺(tái) | 5軸馬達(dá)臺(tái) Regulus®樣品臺(tái)＊4 | |
| 行程范圍 | X | 0～50mm | 0～110mm | 0～110mm |
| Y | 0～50mm | 0～110mm | 0～80mm | |
| R | 360° | |||
| Z | 1.5～30mm | 1.5～40mm | 1.5～40mm | |
| T | -5～70° | |||
| 樣品臺(tái)回位精度 | - | - | ±0.5μm或以下 | |
*1：
使用日立高新技術(shù)樣品在掃描電子顯微鏡圖像測(cè)量*小的粒子間隙
*2：
減速模式觀察
*3：
基于127 mm x 95 mm底片指定的放大倍數(shù)
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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