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        NPC-3500 (A)全自動等離子清洗機去膠機
        NPC-3500 (A)全自動等離子清洗機去膠機

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        美國

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        暫無
        那諾-馬斯特中國有限公司

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        第2年

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        Plasma Cleaner等離子清洗/去膠機

        NPC-3500(A)全自動等離子清洗/去膠機概述:NANO-MASTER 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有****的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

        NPC-3500(A)全自動等離子清洗/去膠機產(chǎn)品特點

        • 緊湊型立式系統(tǒng)

        • 自動上下載片

        • 帶Load Lock

        • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

        • 兼容100級超凈間使用

        • 淋浴頭、ICP或微波等離子源

        • 旋轉(zhuǎn)樣品臺

        • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺

        • 全自動或手動RF調(diào)諧

        • *多可支持5MFC帶電拋光的氣體管路

        • PC計算機控制的氣動閥

        • 帶密碼保護的多級訪問控制

        • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

        • 機械泵的壓力可達到10mTorr

        • 250 l/s的渦輪分子泵

        • 極限真空為5x10-7Torr

        • 完整的安全聯(lián)鎖

        NPC-3500(A)全自動等離子清洗/去膠機應(yīng)用:

        • 有機物以及無機物的殘留物去除

        • 光刻膠剝離或灰化

        • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

        • 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

        • 提高黏附性,消除鍵合問題

        • 塑料的表面改型:O2處理以改進涂覆性能

        • 產(chǎn)生親水或疏水表面

        NPC-3500(A)全自動等離子清洗/去膠機Features:

        • Stand Alone System

        • Auto wafer Load/Unload with load lock

        • Stainless Steel, Aluminum or Bell Jar Chambers

        • Class 100 Clean Room Compatible

        • Shower Head, ICP or Microwave Plasma Sources

        • Rotating Platen

        • RF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled Platen

        • Fully Automated or Manual RF tuning

        • Up to 5 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas Lines

        • PC Controlled Pneumatic Valves

        • Multiple Levels of Access with Password Protection

        • PC Controlled with LabVIEW

        • Mechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr

        • 250 l/sec Turbomolecular Pump

        • 5x10-7 Torr Base Pressure

        • Fully Safety Interlocked

        NPC-3500(A)全自動等離子清洗/去膠機Applications:

        • Removal of Organic and Inorganic Materials without Residues

        • Photoresist Stripping or Ashing

        • Desmearing and Etch Back Applications

        • Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead Frames

        • Adhesion Promotion, Elimination of Bonding Problems

        • urface Modification of Plastics: O2 Treatment for Paintability

        • Producing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces

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        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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