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HTHP原位高溫/高壓三模式反應(yīng)池

在極端條件下進(jìn)行的原位分析附件，三種測(cè)試模式

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高科技產(chǎn)品和現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程需要在極端溫度和壓力條件下的原位分析。Specac的高溫高壓池在全世界應(yīng)用非常穩(wěn)定，效果出色，能解決非常復(fù)雜的實(shí)驗(yàn)需要。

Specac高溫/高壓池有能力再創(chuàng)造這些條件，進(jìn)行光譜分析樣品或模擬實(shí)驗(yàn)室的過(guò)程。

此原位高溫高壓池可提供三種模式測(cè)試，針對(duì)催化劑表征，吡啶吸附，原子沉積，黑體輻射都能輕易勝任。

樣品池設(shè)計(jì)用于高光學(xué)通量，并允許在多種目的分析配置、透射、反射和雙重之間進(jìn)行簡(jiǎn)單交換(見(jiàn)圖1，2，3)。

主要特征

極端條件光譜儀--可編程控制溫度**可達(dá)800℃ ，壓力范圍從真空到1000psi

多目的分析儀--透射、反射和雙重模式

雙重加熱系統(tǒng)，窗片以及加熱池分開(kāi)加熱控制，防止氣體冷凝

4路氣口，3路進(jìn)氣一路出氣，分別控制，可進(jìn)行復(fù)雜，分時(shí)反應(yīng)

透射模式可采用壓片，薄膜等

燃燒模式提供燃燒池，可進(jìn)行燃燒后的氣體紅外組分分析

反射模式可進(jìn)行針對(duì)透射能量較弱，反應(yīng)樣品顏色較深，以及吸收不好的情況

采用特種合金鋼，加熱主體對(duì)吡啶類(lèi)難易清洗的物質(zhì)沒(méi)有吸附

可更換窗片以及承壓的藍(lán)寶石窗片進(jìn)行高壓反應(yīng)

優(yōu)化設(shè)計(jì)--允許在分析模式之間進(jìn)行簡(jiǎn)單交換

安全和可靠的結(jié)構(gòu)--堅(jiān)固耐用的結(jié)構(gòu)、經(jīng)過(guò)安全驗(yàn)證的電子器件以及安全隔膜

應(yīng)用范圍

ü組件失效分析

ü分解研究

ü原位反應(yīng)監(jiān)測(cè)

ü表面反射率測(cè)試

ü過(guò)程氣體分析，催化反應(yīng)，吡啶吸附，黑體輻射

典型的應(yīng)用如下：

q催化劑和氧化還原反應(yīng)，在特定溫度和特定壓力下氣體會(huì)在固體表面發(fā)生反應(yīng)，我們可以用紅外光譜記錄整個(gè)反應(yīng)過(guò)程。

q樣品在不同的物理狀態(tài)下具有多態(tài)性。

q固體燃料，即煤和油，在加熱下?lián)]發(fā)的蒸汽可以進(jìn)行定性和定量分析。

q高溫高壓對(duì)氣體/蒸汽的影響。

q高溫高壓對(duì)固體物質(zhì)的透射和反射產(chǎn)生的影響。

特性及操作

高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來(lái)分析固體樣品，以及靜態(tài)或流動(dòng)傳輸模式的過(guò)程氣體。樣品溫度可高達(dá)800℃，樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。

樣品池窗片和主體可獨(dú)立加熱和控制到高達(dá)200℃的溫度，可阻止內(nèi)部的材料凝結(jié)后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對(duì)光譜儀樣品倉(cāng)內(nèi)的樣品過(guò)度加熱，維持表面在一個(gè)安全的溫度。

可通過(guò)更換樣品池主體上的光學(xué)加壓窗片組件并安裝到基板上來(lái)進(jìn)行透射(**樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。

簡(jiǎn)單的重新定位樣品支架/加熱器組件，將加熱的樣品放到光束下的器皿中，即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來(lái)。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩(wěn)定的氣流。樣品池體積為80ml。

樣品池溫度使用一個(gè)可手動(dòng)或通過(guò)計(jì)算機(jī)編程的專(zhuān)用的控制器來(lái)調(diào)節(jié)。設(shè)計(jì)結(jié)合了一系列重要安全特征。尤其是，樣品池的所有的電源供應(yīng)都符合加拿大標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)(CSA)規(guī)定(30V或更低)，溫控器在熱電偶輸入上安裝有開(kāi)路探測(cè)可阻止過(guò)熱。

樣品池本身安裝了一個(gè)安全隔板可防止偶然的過(guò)壓，如有需要，其可以安裝到通風(fēng)櫥中或其他地方。標(biāo)準(zhǔn)的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的，如有需要可以拆開(kāi)進(jìn)行徹底的清潔。

訂購(gòu)信息

GS05850高溫/高壓池不含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，可

編程高穩(wěn)定性溫控器。

請(qǐng)指定光譜儀制造廠家和型號(hào)。

GS05855高級(jí)高溫/高壓樣品池系統(tǒng)含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，

反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板，可編程高穩(wěn)定性溫控器。

請(qǐng)指定光譜儀制造廠家和型號(hào)。

GS05860反射模式套裝

包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉(zhuǎn)化成高級(jí)的HTHP樣品池(GS05855)

的部件套裝

GS05865密封套件備件

GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經(jīng)過(guò)測(cè)試和認(rèn)證的)

GS05868分解盤(pán)--備用件(2個(gè))

GS05869"安全隔板"備件

可選項(xiàng)

GS05870 HTHP樣品池ESK

GS28000 RS232連接包

GS28001 USB連接包

GS28002 RS485連接包