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Vasco Kin原位時間分辨納米粒度分析是新一代動態(tài)光散射納米粒度分析儀，通過遠程光學(xué)探頭，進行原位非接觸測量和反應(yīng)動力學(xué)，用于監(jiān)測納米顆粒的合成、團聚或懸浮液穩(wěn)定性的研究或監(jiān)測。常用于實時納米顆粒合成過程監(jiān)控， 核反應(yīng)堆內(nèi)現(xiàn)場測量，與其它粒度特性測量儀器聯(lián)用(如光譜儀、SAXS等)。

• 粒度測量范圍 : 0.5nm 到 10μm

• 背向動態(tài)光散射原理，實時遠程非接觸測量

• 監(jiān)測納米顆粒合成過程；監(jiān)測整個過程的粒度變化情況，有助于穩(wěn)定性研究

• 全自動非接觸測量：能穿透玻璃和塑料針管，測定包裝物及反應(yīng)釜中的粒度分布和隨時間的變化

• 適用樣品濃度：0.1ppm-40%（w/v）

• 時間分辨: DLS的分辨率為0.2s，用于動力學(xué)監(jiān)測

• 隨時間變化的粒度分布彩色地形圖

• “時間切片”功能：用戶對測試后數(shù)據(jù)可進行任意時間段內(nèi)的粒度分析

• 樣品前處理：無需樣品前處理，直接測試

• 硬件規(guī)格（核心單元）：

  1. 激光源： 高穩(wěn)定性激光二極管（可選藍光和綠光）

  2. 探測器： 無偽影雪崩光電二極管（APD）

  3. 計算設(shè)備： 內(nèi)嵌專用電腦

  4. 數(shù)據(jù)處理： NanoKin® 相關(guān)和分析軟件

  5. 典型測量時間：*快200ms。測量時間由樣品和測量設(shè)置決定

  6. 操作條件/存儲條件：15℃ ~ 40℃ / -10℃ ~ 50℃ – 非冷凝相對濕度 < 70%

  7. 尺寸/重量： 220 x 220 x 64 mm (上半部分) / 2.5 kg

  220 x 220 x 48 mm (下半部分) / 2.8 kg

• Nano Kin™軟件的主要特點：

  - 三個層級登錄配置文件：管理員、專家、操作員

  - 運行模式：包括測量、模擬、后分析（導(dǎo)入）

  - 直觀導(dǎo)航（順序）

  - 時間切片和動力學(xué)模式：獨特的技術(shù)，允許監(jiān)測快速動力學(xué)和/或準確的再現(xiàn)性測量（時間分辨率高達200毫秒）。

  - 可讀數(shù)據(jù)和繪圖：

  - 動態(tài)導(dǎo)出數(shù)據(jù)/繪圖（右鍵單擊到剪貼板）

  - 報告文件格式：.pdf或.rtf（兼容writer軟件）

  - 反轉(zhuǎn)算法：

  - CUMULANTS 累積量算法：用于具有單分散趨勢的單峰樣品

  - PADE-LAPLACE算法（專有）：多峰樣品的離散數(shù)學(xué)方法。

  - 稀疏貝葉斯學(xué)習(xí)算法（SBL；專有）：多峰樣品的連續(xù)分布數(shù)學(xué)方法。對于所期望的分布斜率不需要先驗知識，正則化參數(shù)自學(xué)習(xí)概率計算模塊。