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GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置簡介：
能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
●分3個(gè)系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)，三個(gè)系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用。
●快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
●溫度控制范圍寬，全程不需要換導(dǎo)熱介質(zhì)，導(dǎo)熱介質(zhì)消耗少。
●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時(shí)導(dǎo)熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長導(dǎo)熱流體的使用壽命。
●高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
●液位顯示功能，隨時(shí)監(jiān)控液位，避免缺液。
●高溫切斷、急停、延時(shí)、漏電、過流電、過熱等多重保護(hù)功能，充分保證使用安全。
●冷凝、預(yù)熱方式為風(fēng)冷，節(jié)約水資源。
GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置典型應(yīng)用：
●化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層反應(yīng)釜的溫度控制。
●攪拌罐的溫度控制。
●高壓反應(yīng)釜的溫度控制。
●材料測(cè)試中的應(yīng)用。
●微反應(yīng)器技術(shù)領(lǐng)域的放大工藝過程的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。
●大型恒溫控制系統(tǒng)。
●小型恒溫控制系統(tǒng)。
●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。
●汽車工藝中熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | GDZT-50-80-200G | |||
儲(chǔ)液槽容積(L) | 10 | |||
空載*低溫度(℃) | -80 | |||
使用溫度范圍(℃) | -80～200 | |||
**環(huán)境溫度(℃) | ≤25 | |||
環(huán)境相對(duì)濕度(％) | ≤60 | |||
電源 | 380V±10％ 50Hz | |||
溫度 控制 | 顯示方式 | 數(shù)字式 | ||
控溫精度(℃) | ±1 | |||
安全保護(hù) | 延時(shí)、過電流、過熱 | |||
不同制冷溫度的制冷量(W) | 200℃ | 6600 | ||
10℃ | 8200 | |||
-10℃ | 6200 | |||
-20℃ | 4500 | |||
-40℃ | 3400 | |||
-60℃ | 3120 | |||
-80℃ | 1030 | |||
制冷 機(jī)組 | 功率(W) | 14820 | ||
**運(yùn)行電流(A) | 39 | |||
制冷劑 | R404A/R23 | |||
加熱功率 | 6000W | |||
循環(huán)泵功率(W) | 280 | |||
循環(huán)泵流量(L/min) | 30 | |||
循環(huán)泵揚(yáng)程(m) | 12 | |||
循環(huán)接口 | 絲口連接：1/2吋，不銹鋼閥門 | |||
儲(chǔ)液槽 | 1Cr18Ni9Ti | |||
整機(jī)尺寸(mm) | 720×573×1280 | |||
整機(jī)重量(kg) | 320 | |||
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