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超寬帶高反射鏡是諸如光子計(jì)數(shù)、超光譜成像或拉曼光譜等應(yīng)用的理想選擇。
350-700 nm， 610-1130 nm， or 350-1100 nm的波長(zhǎng) S光和P光的反射率>99%
基板平坦度和表面質(zhì)量為 λ/10， 20-10
適用直徑：25.4mm
高性能全電介質(zhì)涂層
為0-50度入射角設(shè)計(jì)
使用優(yōu)越的離子束濺射涂覆技術(shù)，可以在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)非常高的絕 dui反射率。在低光照的條件下，高反射率將變得優(yōu)勢(shì)明顯，因?yàn)榇藭r(shí)收集盡可能多的光是至關(guān)重要的。 根據(jù)涂層的類(lèi)型，在0-50°的入射角下，對(duì)于350-1100 nm的波長(zhǎng)范圍，Rs、Rp >99％。
| 型號(hào) | 10Q20BB.1 | 10Q20BB.2 | 10Q20BB.3 |
|---|---|---|---|
| 波長(zhǎng)范圍 | 350-700 nm | 610-1130 nm | 350-1100 nm |
| 入射角 | 0-50° | 0-50° | 0-50° |
| 鍍膜類(lèi)型 | Ultra-broadband Dielectric | Ultra-broadband Dielectric | Ultra-broadband Dielectric |
| 反射率 | Rs， Rp>99% @ 350-700 nm | Rs， Rp>99% @ 610-1130 nm | Rs， Rp>99% @ 350-1100 nm |
| 損傷閾值 | 1 J/cm2 @ 20 ns， 20 Hz， 355 nm & 532 nm | 2 J/cm2 @ 20 ns， 20 Hz， 1064nm | 1 J/cm2 @ 20 ns， 20 Hz， 355 nm & 532 nm; 5 J/cm2 @ 20 ns， 20 Hz， 1064nm |
| 材料 | UV Grade Fused Silica | UV Grade Fused Silica | UV Grade Fused Silica |
| 表面質(zhì)量 | 20-10 scratch-dig | 20-10 scratch-dig | 20-10 scratch-dig |
| 表面平面度 | λ/10 at 632.8 nm with power removed | λ/10 at 632.8 nm with power removed | λ/10 at 632.8 nm with power removed |
| 直徑 | 25.4 mm | 25.4 mm | 25.4 mm |
| 直徑公差 | +0/-0.25 mm | +0/-0.25 mm | +0/-0.25 mm |
| 厚度 | 6.35 mm | 6.35 mm | 6.35 mm |
| 厚度公差 | ±0.25 mm | ±0.25 mm | ±0.25 mm |
| 楔形 | <3 arc min | <3 arc min | <3 arc min |
| 通光孔徑 | ≥central 80% of diameter | ≥central 80% of diameter | ≥central 80% of diameter |
| 倒角 | 0.51 ± 0.25 mm face width bevel mm face width | 0.51 ± 0.25 mm face width bevel mm face width | 0.51 ± 0.25 mm face width bevel mm face width |
| 倒角公差 | 45° | 45° | 45° |
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