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        布魯克納米壓痕儀/硬度/楊氏/彈性模量系統(tǒng)
        布魯克納米壓痕儀/硬度/楊氏/彈性模量系統(tǒng)

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        冠乾科技(上海)有限公司

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        第2年

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        ——納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)測(cè)試系統(tǒng),加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段。

        布魯克的海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter同時(shí)具有良好的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度?;诤K紕?chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新,它為納米力學(xué)表征帶來了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀器所需的所有要求,實(shí)現(xiàn)了控制上突出的先進(jìn)性和高效性,試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性,測(cè)量穩(wěn)定性,以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。

        先進(jìn)的Performech®II控制模塊和電子設(shè)計(jì)

        高性能的高速閉環(huán)控制業(yè)界噪音控制

        集成的帶輸入/輸出信號(hào)的多參數(shù)控制五百倍于前代產(chǎn)品的力學(xué)測(cè)試速度

        多維度測(cè)量耦合

        充分優(yōu)化各個(gè)傳感器的特質(zhì)適用不同測(cè)量需要,通過多維傳感器的選擇實(shí)現(xiàn)

        不同測(cè)量間的無縫耦合多種有效的測(cè)試模塊配置,包括納米/微米壓痕、納米劃痕、納米摩擦磨損、高分辨原位掃描探針顯微鏡成像、動(dòng)態(tài)納米壓痕和高速力學(xué)性能成像等。

        豐富的系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件

        TriboScan(TM) 10提供了創(chuàng)新性的控制功能,包括XPM超快納米壓痕,SPM+原位掃描探針顯微鏡成像,動(dòng)態(tài)表面搜索,全自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)和創(chuàng)新的測(cè)試程序。

        Tribo iQ (TM)提供了強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理、分析和畫圖功能,并具有可編程數(shù)據(jù)分析模塊和自動(dòng)生成的定制測(cè)試報(bào)告功能

        極大的靈活性和具有前瞻性的表征潛質(zhì)

        布魯克納米壓痕儀Ti 980提供了多級(jí)別的防護(hù)罩提供了超強(qiáng)環(huán)境隔絕能力,并具有用于將來的升級(jí)可擴(kuò)展接口樣品臺(tái)提供了機(jī)械、磁性和真空固定方式,適用于各種樣品。

        始終處于材料研究和開發(fā)的*前沿

        海思創(chuàng)從1992年起就在全球范圍內(nèi)處于納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征的位置。通過與研究人員和工程師的持續(xù)合作,布魯克理解您的獨(dú)特需求,通過創(chuàng)新的技術(shù)幫助您解決當(dāng)下和將來面臨的材料挑戰(zhàn)。海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter是這些努力的集大成者。它提供了**的性能,能滿足您持續(xù)更新的材料表征需求。

        簡潔、高速的自動(dòng)控制——系統(tǒng)自動(dòng)校正使得每次測(cè)試都無懈可擊

        針尖面積函數(shù)自動(dòng)校正

        傳感器自動(dòng)校正

        壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正

        自動(dòng)測(cè)試程序

        快速、多樣品自動(dòng)測(cè)試功能實(shí)現(xiàn)高通量表征

        智能化自動(dòng)程序確保用戶選擇合適的針尖

        高分辨多尺度成像結(jié)合全尺寸樣品的光學(xué)搜索,極大簡化測(cè)試流程

        低的噪音水平,實(shí)現(xiàn)真正納米尺度表征

        從微米到幾個(gè)納米的多尺度測(cè)量納牛級(jí)別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測(cè)量能力,實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征

        系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超過6個(gè)數(shù)量級(jí)的力測(cè)量和10個(gè)數(shù)量級(jí)的位移測(cè)量

        力和位移噪音水平保證在客戶現(xiàn)場(chǎng)安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)

        *快的反饋控制速率

        布魯克納米壓痕儀Ti 980精確控制測(cè)試過程實(shí)現(xiàn)精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征特殊的力和位移反饋控制方法用于海思創(chuàng)的傳感器-專門針對(duì)海思創(chuàng)傳感器物理特性開發(fā)的力與位移反饋控制算法每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制,使得系統(tǒng)能測(cè)量快速瞬態(tài)過程,并對(duì)其作出反饋,真正實(shí)現(xiàn)用戶的測(cè)試意圖-每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整的感知-分析-控制的循環(huán),使得系統(tǒng)能對(duì)瞬態(tài)過程進(jìn)行測(cè)量與反饋,以此重現(xiàn)用戶定義的測(cè)試方式

        強(qiáng)大的測(cè)試模塊配置,放大化您的表征潛能

        自下而上的先進(jìn)設(shè)計(jì)提供了世界zui xian jin的納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)

        實(shí)現(xiàn)*豐富的潛在測(cè)試能力

        Performech® II高級(jí)控制模塊

        精確控制納米力學(xué)測(cè)試過程

        力和位移噪音水平實(shí)現(xiàn)測(cè)量精度和重復(fù)性超快反饋控制算法提供整個(gè)測(cè)試過程的精確控制專為各種不同測(cè)試而開發(fā)的一整套高性能傳感器

        多達(dá)24個(gè)通道的數(shù)據(jù)采集能力,每個(gè)通道都能同時(shí)達(dá)到1.2MHz采樣率

        多個(gè)測(cè)試頭的耦合——一整套傳感器適用于各種測(cè)試任務(wù)

        任意兩個(gè)測(cè)頭之間無縫連接

        標(biāo)配二維傳感器和nanoDMA III傳感器實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的多種測(cè)試功能和高性能

        多種有效的測(cè)試模塊配置

        納米壓痕:硬度,模量,蠕變,應(yīng)力弛豫,斷裂韌性、高速力學(xué)性能成像

        納米摩擦:薄膜結(jié)合力,摩擦系數(shù),抗劃擦性能,磨損

        掃描探針顯微鏡成像:形貌和梯度成像,納米級(jí)別定位精度,摩擦

        力成像動(dòng)態(tài)納米壓痕:隨著深度連續(xù)測(cè)量硬度和模量,存儲(chǔ)模量,損失模量,損耗角正切

        布魯克納米壓痕儀Ti 980

        nanoDMA III:動(dòng)態(tài)納米壓痕

        布魯克的nanoDMA III是強(qiáng)大的動(dòng)態(tài)納米壓痕技術(shù)。它提供了彈/塑性和粘彈性隨著壓入深度、頻率和時(shí)間的變化關(guān)系。

        全面表征各種材料的普適性方法,從較軟的聚合物到硬質(zhì)鍍層都能適用;

        集成直流和交流調(diào)制使得從初始接觸點(diǎn)開始就能實(shí)現(xiàn)納米尺度動(dòng)態(tài)性能的可靠、定量表征

        原位參考頻率法校正溫漂使得長時(shí)間測(cè)試的精度大大提高。

        XPM:快速力學(xué)性能成像

        不論是測(cè)量分辨率和精度,還是測(cè)量速度,XPM都是納米力學(xué)測(cè)試的業(yè)界新標(biāo)桿。有了XPM,原來可能需要一整年才能獲得的數(shù)據(jù),現(xiàn)在只需要一個(gè)下午就能獲得。這些性能是通過以下三個(gè)技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。1)高帶寬靜電激勵(lì)傳感器;2)快速控制和數(shù)據(jù)采集電子系統(tǒng);3)自上而下的原位掃描探針顯微鏡成像。這些技術(shù)聯(lián)用能實(shí)現(xiàn)每秒六次納米壓痕測(cè)試,從而獲得全面的定量納米力學(xué)性能圖譜以及性能分布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。

        更少時(shí)間測(cè)量更多參數(shù)

        超高速定量力學(xué)性能測(cè)量(每秒6次測(cè)量)快速、高分辨空間硬度和模量分布統(tǒng)計(jì)一分鐘內(nèi)可靠完成針尖函數(shù)自動(dòng)校正;比傳統(tǒng)納米壓痕測(cè)試快500倍的數(shù)據(jù)采集速率 xSol 環(huán)境控制腔及載臺(tái),可實(shí)現(xiàn)極端環(huán)境條件下高通量測(cè)量。

        SPM+實(shí)現(xiàn)納米力學(xué)測(cè)試前后的準(zhǔn)確原位成像

        布魯克首創(chuàng)的掃描納米壓痕技術(shù)使用同一根探針實(shí)現(xiàn)樣品表面形貌成像和納米壓痕測(cè)試。這種方法實(shí)現(xiàn)了定位精度,并且可以在納米壓痕測(cè)試后立即對(duì)樣品塑性形變進(jìn)行成像,加快測(cè)試速度。

        高定位精度(+/-10nm——可以從64x644096x4096范圍內(nèi)設(shè)定掃描分辨率,可以對(duì)各種高長寬比的特征形貌進(jìn)行不同X-Y分辨率成像,納米力學(xué)性能成像分辨率和調(diào)色板,可以和摩擦力成像,nanoDMA III,nanoECRxSol環(huán)境控制腔等聯(lián)用

        強(qiáng)大的系統(tǒng)控制和分析

        TriboScan 10:強(qiáng)大的測(cè)試靈活性提供了無限的測(cè)試可能性

        將布魯克納米壓痕全套測(cè)試技術(shù)集成到一個(gè)直觀的軟件內(nèi)基于標(biāo)簽頁架構(gòu)的軟件設(shè)計(jì)使得用戶可以方便的使用軟件功能,靈活的測(cè)試過程分段定義方法提供了適用于所有測(cè)試模式的優(yōu)異控制

        TriboIQ: 可編程數(shù)據(jù)分析程序

        易用的操作界面,從簡單到復(fù)雜的可定制數(shù)據(jù)分析包直觀的數(shù)據(jù)組織和分析流程,簡單點(diǎn)擊即可生成數(shù)據(jù)報(bào)告直觀可自定義的數(shù)據(jù)處理和分析模塊開放式架構(gòu)使得多用戶合作更加容易

        海思創(chuàng)TI980升級(jí)選項(xiàng)

        xSol環(huán)境控制腔與載臺(tái)

        環(huán)境控制腔實(shí)現(xiàn)了定量納米力學(xué)性能和納米摩擦學(xué)特征隨著溫度、氣氛和濕度的變化。

        nanoECR

        納米壓痕測(cè)試的原位導(dǎo)電特性可以和納米力學(xué)性能,材料形變行為和接觸電阻等同步研究。

        xProbe

        基于MEMS傳感器的探針可以實(shí)現(xiàn)原子力顯微鏡級(jí)別的超低力和位移噪音水平。

        iTF

        **的原位薄膜力學(xué)性能分析包提供了排除基底效應(yīng)影響的薄膜和多層膜結(jié)構(gòu)的定量

        力學(xué)性能。

        3D OmniProbe和多量程

        通過擴(kuò)展力和位移測(cè)量量程實(shí)現(xiàn)微米尺度的力學(xué)和摩擦學(xué)特性表征。

        NanoProbe

        同步拉曼光譜

        原位研究力學(xué)性能和摩擦學(xué)特性與材料結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分的相關(guān)性。

        模量成像

        動(dòng)態(tài)掃描納米壓痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。

        熒光顯微鏡聯(lián)用

        集成熒光顯微鏡可實(shí)現(xiàn)熒光共定位納米力學(xué)測(cè)試等。

        電化學(xué)模塊

        實(shí)現(xiàn)氧化和還原環(huán)境下的原位定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)行為研究。

        自動(dòng)探針更換模塊

        按鈕操作的自動(dòng)探針更換模塊。

        樣品臺(tái)

        多尺度的磁性、機(jī)械和真空固定方式可以固定幾乎所有待測(cè)樣品,包括300mm晶圓。

        TriboAE

        聲音傳感器能通過針尖原位監(jiān)測(cè)納米壓痕過程中的斷裂和形變產(chǎn)生的聲音信號(hào)。

        TriboImage

        納米尺度劃痕/磨損的實(shí)時(shí)表征。

        創(chuàng)新點(diǎn)

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