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固定污染源氨逃逸在線分析系統(tǒng)

針對(duì)固定污染源氨逃逸在線監(jiān)測(cè)的技術(shù)要求，本產(chǎn)品結(jié)合大方科技在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測(cè)的豐富經(jīng)驗(yàn)，研制開(kāi)發(fā)環(huán)保型氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，專(zhuān)用于固定污染源氨逃逸的實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)，并將數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)傳送至DCS。設(shè)備改變傳統(tǒng)分體方式，采用一體化設(shè)計(jì)，占用空間小，安裝維護(hù)方便，測(cè)量精度高，滿足環(huán)保監(jiān)管要求。

環(huán)保專(zhuān)用、經(jīng)典技術(shù)和現(xiàn)代設(shè)計(jì)的結(jié)合

一、測(cè)量原理：

系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進(jìn)行NH3的測(cè)量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長(zhǎng)激光束，穿過(guò)待測(cè)氣體，通過(guò)分析被測(cè)氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系，從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測(cè)待測(cè)氣體中NH3濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測(cè)氣體吸收的特定波長(zhǎng)，使得測(cè)量不受測(cè)量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有極高的測(cè)量精度。

二、測(cè)量方案：

根據(jù)固定污染源氨逃逸測(cè)量點(diǎn)溫度不高、測(cè)量濃度低、測(cè)量精度要求高等特點(diǎn)，方案沿用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長(zhǎng)光程測(cè)量池技術(shù)，并進(jìn)行一體化設(shè)計(jì)，設(shè)備直接安裝在煙道上，空間占用小。

系統(tǒng)由取樣分析單元和儀表組成，一體化設(shè)計(jì)，安裝于煙道上，煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進(jìn)入設(shè)備樣氣室進(jìn)行測(cè)量分析，無(wú)須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動(dòng)等對(duì)測(cè)量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應(yīng)時(shí)間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過(guò)程中無(wú)氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測(cè)量光程可達(dá)20米，可大大提高檢測(cè)下限。

三、產(chǎn)品主要特點(diǎn)：

1.采用國(guó)際先進(jìn)的可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜技術(shù)，不受背景氣體、粉塵等因素干擾，實(shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確測(cè)量；

2.抽取氣體直接進(jìn)入氣室，不需要經(jīng)過(guò)伴熱管線，煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無(wú)冷點(diǎn)，避免氨氣吸附和損失，保證樣氣真實(shí)性；

3.內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊，并且進(jìn)行動(dòng)態(tài)的補(bǔ)償，實(shí)時(shí)鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象；

4.采用多次反射長(zhǎng)光程測(cè)量技術(shù)，光程可達(dá)20米，極大地提高測(cè)量精度和檢測(cè)下限；

5.模塊化設(shè)計(jì)，開(kāi)機(jī)預(yù)熱后便可正常運(yùn)行無(wú)需進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)光路調(diào)試，安裝調(diào)試靈活方便；

6.改變傳統(tǒng)分體方式，采用一體化設(shè)計(jì)，占用空間??；

7.大方科技特有的樣氣室設(shè)計(jì)，**技術(shù)，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對(duì)污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，讓維護(hù)更加快速方便。

四、典型應(yīng)用：

電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測(cè)

煉焦企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測(cè)

化工廠固定污染源氨逃逸監(jiān)測(cè)