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        薄膜厚度測量系統(tǒng)TF200
        薄膜厚度測量系統(tǒng)TF200

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        遼寧

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        暫無
        沈陽科晶自動化設備有限公司

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        產品簡介:TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200根據(jù)反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量nk值。

        產品型號

        TF200-VIS

        TF200-EXR

        TF200-DUV

        TF200-XNIR

        主要特點

        快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高

        應用領域

        半導體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等)

        LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO)

        LED (SiO2、光刻膠ITO等)

        觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

        汽車(防霧層、Hard Coating DLC等)

        醫(yī)學(聚對二甲苯涂層球囊/導尿管壁厚藥膜等)

        波長范圍

        380-1050nm

        380-1700nm

        190-1100nm

        900-1700nm

        厚度范圍

        50nm-40um

        50nm-300um

        1nm-30um

        10um-3mm

        準確度(取決于材料0.4%2nm之間取較大者)

        2nm

        2nm

        1nm

        10nm

        精度

        0.2nm

        0.2nm

        0.2nm

        3nm

        入射角

        90°

        90°

        90°

        90°

        樣品材料

        透明或半透明

        透明或半透明

        透明或半透明

        透明或半透明

        測量模式

        反射/透射

        反射/透射

        反射/透射

        反射/透射

        光斑尺寸(可選微光斑附件。

        2mm

        2mm

        2mm

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