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基于雙光子灰度光刻原理無掩模微納3D打印
- 適合于制造微光學衍射以及折射元件
Quantum X新型超高速無掩模光刻技術的核心是Nanoscribe****的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性**結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。
Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點
這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。
技術參數(shù)
產地：德國全進口
打印技術：雙光子灰度光刻 （2GL)
三維橫向特征尺度：160nm
**分辨率：400nm
*小表面粗糙度：≤10nm
激光掃描速度：≤250mm/s
關鍵特性
高速的2.5維微納制造
光學質量表面和極好的形狀精度
亞微米級別加工滿足設計自由
超快調整控制打印體素大小，優(yōu)化打印過程
自動化的打印流程，例如校正、打印和實時
監(jiān)控 廣泛的基板-樹脂組合選擇
按任務順序連續(xù)進行打印
可觸摸屏和遠程電腦操控
納糯三維科技（上海）有限公司作為德國Nanoscribe獨資子公司擴大了亞太地區(qū)業(yè)務范圍，同時也加強了售后服務支持。
暫無數(shù)據(jù)！
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移動端
工商已核實
