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應(yīng)用領(lǐng)域：
HW-Touch石墨紅外消解板具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點(diǎn)，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產(chǎn)品。
儀器特點(diǎn)：
1)加熱均勻：加熱體選用導(dǎo)熱性能優(yōu)越的耐高溫高純石墨，保證消解面板溫度均勻，中心點(diǎn)與邊緣間溫差小；消解多個(gè)樣品時(shí)能保證各個(gè)樣品在相同的反應(yīng)溫度和條件下進(jìn)行批量處理，克服了傳統(tǒng)的平板電熱板的種種缺陷。
2)耐腐蝕：高純石墨表面涂有特氟隆涂層，易清潔且耐腐蝕，可以在強(qiáng)酸強(qiáng)堿等腐蝕環(huán)境中放心使用。
3)控制精確：PID溫控系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單方便，性能優(yōu)良，經(jīng)久耐用?？販鼐?#177;1.0℃，加熱速率可調(diào)，實(shí)現(xiàn)程序升溫并控制加熱保持時(shí)間，完成加熱程序后自動(dòng)停止加熱。
4)高效：有效加熱面積為：470×314mm，可進(jìn)行樣品批次處理，提高工作效率。
5)應(yīng)用范圍廣泛：可用于實(shí)驗(yàn)室常規(guī)加熱反應(yīng)；可精確控制樣品消解；可為微波消解后的樣品快速趕酸，無(wú)需轉(zhuǎn)移至其他同功能容器中即可定容。
6)高溫：采用紅外加熱方式，溫度可達(dá)到460℃，特殊高溫特氟隆鍍層高純石墨作為加熱材質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | HW-Touch |
加熱方式 | 紅外加熱 |
加熱材料 | 高溫高純石墨(噴涂特氟龍涂層) |
有效加熱面積 | 470×314 mm |
控制方式 | PID |
工步數(shù) | 30段 |
控溫范圍 | RT-460℃ |
控溫精度 | ±0.1℃ |
保護(hù)功能 | 過(guò)熱保護(hù)、加熱保持時(shí)間可控 |
**功率 | 3500W |
電源要求 | AC 220V/50Hz/10A |
設(shè)備尺寸 W×D×H | 770×520×200 mm |
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 1、高硼硅玻璃消解瓶30套（含專(zhuān)用回流裝置）； 2、消解瓶架一套； 3、特氟龍消解杯30套。 |
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