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        斯達(dá)沃微電泳儀(zeta電位儀)JS94系列
        斯達(dá)沃微電泳儀(zeta電位儀)JS94系列

        參考價(jià)格

        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        北京

        樣本

        暫無
        北京斯達(dá)沃科技有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        微電泳儀(zeta電位儀)JS94系列介紹

        微電泳儀(Zeta電位儀)JS94系列可用于測定分散體系顆粒物的固-液界面電性(ζ電位),也可用于測量乳狀液液滴的界面電性,也可用于測定等電點(diǎn)、研究界面反應(yīng)過程的機(jī)理。通過測定顆粒的Zeta電位,求出等電點(diǎn),是認(rèn)識(shí)顆粒表面電性的重要方法,在顆粒表面處理中也是重要的手段。與國內(nèi)外其它同類型儀器相比,它具有顯著的優(yōu)越性??蓮V泛應(yīng)用于化妝品、選礦、造紙、醫(yī)療衛(wèi)生、建筑材料、超細(xì)材料、環(huán)境保護(hù)、海洋化學(xué)等行業(yè),也是化學(xué)、化工、醫(yī)學(xué)、建材等專業(yè)的重要教學(xué)儀器之一。

        首部《膠體顆粒zeta電位分析 電泳法通則》國家標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布,標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 32668-2016,該國家標(biāo)準(zhǔn)于2016年11月1日起實(shí)施。

        型號(hào)

        適用體系

        主要粒徑范圍

        (微米)

        顯微光學(xué)系統(tǒng)

        分辨率

        JS94H

        水性體系

        0.5~20

        高倍顯微光學(xué)系統(tǒng)

        4pixel/μm

        JS94H2

        水性體系和有機(jī)體系

        0.5~20

        高倍顯微光學(xué)系統(tǒng)

        4pixel/μm

        JS94J

        水性體系

        0.1~10

        日本W(wǎng)KD

        高倍顯微光學(xué)系統(tǒng)

        12pixel/μm

        JS94J2

        水性體系和有機(jī)體系

        0.1~10

        日本W(wǎng)KD

        高倍顯微光學(xué)系統(tǒng)

        12pixel/μm

        JS94K

        水性體系

        0.2~50

        日本連續(xù)變倍光學(xué)系統(tǒng),適用于更寬范圍顆粒的測量

        8pixel/μm

        JS94K2

        水性體系和有機(jī)體系

        0.2~50

        日本連續(xù)變倍光學(xué)系統(tǒng),適用于更寬范圍顆粒的測量

        8pixel/μm

        JS94系列微電泳儀(Zeta電位儀)共性參數(shù)

        1、功耗:<150W

        2、電源輸入電壓:220V 50Hz

        3、適用環(huán)境:防震平臺(tái)

        4、適用溫度范圍:室溫到35℃,讀取精度0.1

        5、測數(shù)準(zhǔn)確度:系統(tǒng)誤差在5%以內(nèi)

        6、pH范圍:一般應(yīng)用在下2.0~12.0,亦可在1.6~13.0范圍內(nèi)使用

        7、工作距離7mm

        8、杯型開放式電泳裝置,配套特制電極支架

        JS94系列微電泳儀(Zeta電位儀)功能特點(diǎn)

        1. 儀器采用新設(shè)計(jì)的新型簡便的電泳池,采用0.5cm 厚的玻璃杯,電極內(nèi)置在池內(nèi)。電泳杯與內(nèi)置電極經(jīng)精密的微流場計(jì)算、表面處理,組成一套與傳統(tǒng)的電泳池完全不一樣電泳裝置。測試時(shí)樣品用量極少,每次僅 0.5ml,易于清洗,使用方便,經(jīng)濟(jì)實(shí)用。

        2. 采用經(jīng)過精心設(shè)計(jì)的電極支架,與電泳杯緊密配合,形成一個(gè)杯形開放式電泳裝置,電極采用銀、鉑和鈦金屬絲制成,經(jīng)表面處理后工作狀態(tài)穩(wěn)定。

        3. 制作精良的十字標(biāo),置入電泳杯后放在三維平臺(tái)上,調(diào)整三維平臺(tái),在計(jì)算機(jī)屏幕看到清晰的十字圖像,便找到測定位置,沒有靜止層問題。

        4. 該電泳儀采用半導(dǎo)體發(fā)光近場光學(xué)系統(tǒng),功率僅幾十微瓦,不會(huì)因發(fā)熱而影響測量環(huán)境和測量精度,并調(diào)整了光學(xué)系統(tǒng) ,加大了放大倍率 ,采用波長較短的藍(lán)光和綠光,因此可以看清更小的顆粒。

        5. 采用恒壓低頻轉(zhuǎn)換電源, 可以防止極化,同時(shí)又可大大提高測量速度。正負(fù)換向時(shí)間為0.30秒至1.20秒連續(xù)可調(diào),采樣時(shí)間僅需 3~10秒。電極間電壓可根據(jù)需要調(diào)節(jié)。

        6. 采用溫度采樣探頭, 自動(dòng)連續(xù)對(duì)環(huán)境溫度進(jìn)行采樣, 返回計(jì)算機(jī),自動(dòng)調(diào)整參數(shù),用于計(jì)算Zeta電位。采用計(jì)算機(jī)多媒體技術(shù), 在給定的節(jié)拍下, 自動(dòng)對(duì)經(jīng)放大1200倍的超細(xì)顆粒連續(xù)“拍照”,提供雙向共四幅灰度圖像進(jìn)行分析計(jì)算。

        視頻法測量zeta電位和激光衍射法測量zeta電位的優(yōu)缺點(diǎn)

        如果需要比較視頻法測量zeta電位和激光衍射法測量zeta電位的優(yōu)缺點(diǎn),參見表2及《精確和準(zhǔn)確——關(guān)于zeta電位兩種測量方法的討論》。

        國內(nèi)外微電泳儀(zeta電位儀)對(duì)比表(表2)

        Zeta

        電位

        JS94系列

        進(jìn)口(一般為激光衍射法)

        測量

        方法

        采用視頻測量技術(shù),全部分析過程均是“所見即所得”,所以數(shù)據(jù)一定是準(zhǔn)確的,想做錯(cuò)都難,是實(shí)測值

        一般采用激光衍射測量技術(shù),“在ISO13320國際標(biāo)準(zhǔn)中,特別提出如果顆粒粒徑小于幾十微米,需采用米氏理論,輸入正確的樣品折射率和吸收率以便能獲得更為準(zhǔn)確的結(jié)果”。由此可見該類儀器測量的zeta電位是需要在正確的折射率和吸收率等參數(shù)支持下才能得出的計(jì)算值

        測量

        對(duì)象

        是測量zeta電位*準(zhǔn)確的儀器,沒有之一。但受其測量方法限制,只能逐個(gè)觀察帶電顆粒形狀和粒徑,無法生成整個(gè)分散體系的粒徑分布直方圖。

        是測量整個(gè)分散體系中粒徑分布直方圖zui好的儀器,但其附帶的測量zeta電位功能只具有參考意義。

        適用

        范圍

        由于無需測量整個(gè)體系的粒徑分布,只需截取部分部分不沉降的帶電顆粒來表征整個(gè)分散體系中帶電顆粒的zeta電位,因此被測樣品只需有部分帶電顆粒的粒徑在0.1~50微米之間即可。

        “當(dāng)顆粒小到幾百納米時(shí),其衍射光強(qiáng)對(duì)于角度幾乎完全失去依賴性”。

        樣品

        準(zhǔn)備

        樣品無需預(yù)處理,即便極端情況(比如濃稠不透光樣品)僅需稀釋即可。

        不少樣品需要按照操作手冊(cè)做預(yù)處理,并事先測量該樣品正確的折射率和吸收率數(shù)據(jù),輸入操作軟件以便得到zeta電位的計(jì)算值。

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
        評(píng)論內(nèi)容
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        公司動(dòng)態(tài)
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