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        Hiden HPR30過程氣體分析質譜儀
        Hiden HPR30過程氣體分析質譜儀

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        產地

        英國

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        北京英格海德分析技術有限公司

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        技術參數:

        HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser),適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。

        應用:

        · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD

        · 真空涂覆/ 等離子刻蝕

        · 沉積濺射

        · 污染物研究

        · 基本壓力辨別

        · 泄漏探測/ 實質泄漏/脫附分析

        · 除氣/烘烤/泵效能

        · 反應室/過程氣體污染物

        特點:

        · 簡潔的桌上型,移動推車或控制臺架結構

        · Direct re-entrant流孔板,差式泵,以達到*適宜的靈敏度

        · 連續(xù)取樣從10-4mbar至1mbar.

        · 高靈敏度(**可至5ppb),質量數可選至1000amu

        · 軟離子化技術,分析復雜有機物,或表觀MS研究

        · 穩(wěn)定性好(24h之上,峰高變化小于±0.5%)

        · MASsoft軟件控制,或由局域網進行多個系統(tǒng)控制

        · 氣動閥自動控制;出現電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置

        · 自動、同時數據取得、分析,實時顯示、報警

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