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結(jié)構(gòu)
項(xiàng)目 | ZQ200C | ZQ100C | ZQ100B |
蒸汽發(fā)生器 | 1個(gè) | 1個(gè) | 1個(gè) |
蒸汽站 | 1個(gè)(1/0.1 Torr) | 1個(gè)(1/0.1 Torr) | 1個(gè)(10 Torr) |
微孔站 | 1個(gè)(1/0.1 Torr) | 無(wú) | 無(wú) |
傳感器 | 7個(gè) | 5個(gè) | 4個(gè) |
冷阱 | 1個(gè) | 2個(gè) | 2個(gè) |
預(yù)處理位 | 無(wú)(可原位預(yù)處理) | 2個(gè) | 2個(gè) |
恒溫水浴 | 1個(gè)(0~50°C) | 1個(gè)(0~50°C) | 1個(gè)(0~50°C) |
1L液氮杯 | 2個(gè) | 無(wú) | 無(wú) |
3L液氮杯 | 1個(gè) | 2個(gè) | 2個(gè) |
機(jī)械泵 | 2個(gè)(含1個(gè)耐腐蝕泵) | 2個(gè)(含1個(gè)耐腐蝕泵) | 1個(gè)耐腐蝕泵 |
分子泵 | 1個(gè) | 1個(gè) | 無(wú) |
特點(diǎn)
帶蒸汽發(fā)生器作為吸附氣氣源
外氣室為不銹鋼模塊，帶恒溫箱（室溫~50°C）
蒸汽吸附系統(tǒng)，抽真空時(shí)經(jīng)過(guò)冷阱
密封件采用全氟O形圈
功能
低溫氮吸附法，比表面及孔徑分布測(cè)試
各種氣體和蒸汽的吸附等溫線測(cè)試
等量吸附熱測(cè)定
氣體選擇性吸附系數(shù)測(cè)定
技術(shù)參數(shù)
項(xiàng)目 | ZQ200C | ZQ100C | ZQ100B |
測(cè)試原理 | 靜態(tài)容量法 | 靜態(tài)容量法 | 靜態(tài)容量法 |
物理吸附性能 | 比表面≥ 0.01m2/g 介孔：2 ~500nm（BJH法）微孔：0.35 ~2 nm (t圖法、DR法、MP法、DA法、HK法、SF法、NLDFT法) | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
物理吸附質(zhì) | 氮?dú)?、氬氣、氪氣、二氧化碳?/span> | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽吸附質(zhì) | 一氧化碳、氨氣等氣體以及常溫下為液體的物質(zhì)（有強(qiáng)烈腐蝕、劇毒、危險(xiǎn)氣體除外） | 同ZQ200C | 同ZQ200C但p0需大于1kPa |
物理吸附溫度 | 77K，87K | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽吸附溫度 | 0~50°C | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽回收 | 分析位蒸汽冷阱回收 | 分析位和預(yù)處理位雙冷阱蒸汽回收 | 同ZQ100C |
預(yù)處理 | 真空原位預(yù)處理 | 預(yù)處理位+原位真空處理 | 同ZQ100C |
測(cè)試原理靜態(tài)容量法
測(cè)試范圍比表面≥ 0.01m2/g
介孔 2 ~500nm（BJH法）
微孔 0.35 ~2 nm (T圖法、DR法、MP法、DA法、
HK法、SF法、NLDFT法)
氣體種類氮、氬、氪、CO2、CO、氨、苯、甲烷、乙醇、甲醛、水蒸汽等（有強(qiáng)烈腐蝕、劇毒、危險(xiǎn)氣體除外）
氣體發(fā)生器當(dāng)吸附質(zhì)在常溫常壓下是液體時(shí)，可通過(guò)氣體發(fā)生器
形成吸附質(zhì)蒸汽，滿足進(jìn)行氣體吸附測(cè)試的要求
吸附壓力 P/Po < 1 （Po吸附質(zhì)在吸附溫度下的飽和蒸汽壓）
真空泵進(jìn)口特種耐腐蝕二級(jí)旋片式真空泵，極限真空10-1Pa
分子泵
壓力傳感器 1000 Torr、10Torr、1Torr
吸附溫度液氮杯提供液氮溫度測(cè)試條件，半導(dǎo)體恒溫水浴提供 0°~ 50°C 測(cè)試條件
進(jìn)氣數(shù)量按客戶要求，提供4×n 個(gè)（4、8、12）獨(dú)立進(jìn)氣口
氣體回收有害氣體通過(guò)冷阱回收（冷阱溫度77K），確保環(huán)境和機(jī)械泵油免受污染
預(yù)處理真空原位預(yù)處理，溫度≤400°C±1°C
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